自对准双外延超结IGBT及制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202310854476.0
申请日
2023-07-12
公开(公告)号
CN119325241A
公开(公告)日
2025-01-17
发明(设计)人
黄子伦
申请人
苏州聚谦半导体有限公司
申请人地址
215123 江苏省苏州市苏州工业园区星湖街328号创意产业园21-A401-001单元
IPC主分类号
H10D12/00
IPC分类号
H10D12/01 H10D62/10 H01L21/20
代理机构
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人
张磊
法律状态
实质审查的生效
国省代码
江苏省 苏州市
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共 50 条
[1]
自对准屏蔽栅双外延超结IGBT及制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN119325243A ,2025-01-17
[2]
自对准双外延超结MOSFET及制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN119325253A ,2025-01-17
[3]
自对准双外延超结深槽IGBT及制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN119325244A ,2025-01-17
[4]
自对准屏蔽栅双外延超结MOSFET及制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN119325256A ,2025-01-17
[5]
自对准双外延超结深槽MOSFET及制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN119325255A ,2025-01-17
[6]
自对准双槽IGBT结构及其制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN115498026B ,2025-07-29
[7]
自对准双槽IGBT结构及其制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN115498026A ,2022-12-20
[8]
自对准离子植入IGBT及制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN119325242A ,2025-01-17
[9]
自对准双槽屏蔽栅IGBT结构及其制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN115528102A ,2022-12-27
[10]
自对准埋入式栅极金属IGBT及制造方法 [P]. 
黄子伦 .
中国专利 :CN119325240A ,2025-01-17