掩模模块、基板载体、基板处理系统和处理基板的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202280097765.4

申请日：

2022-10-26

公开(公告)号：

CN119488005A

公开(公告)日：

2025-02-18

发明(设计)人：

李相喆黃荣周赵景镐李明宣金英年托马索·维尔切斯金琯成林裕新

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H10K71/00

IPC分类号：

H10K99/00 C23C14/04

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;吴启超

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-07	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H10K 71/00申请日:20221026
2025-02-18	公开	公开

共 50 条

[1]

用于支撑基板的基板载体、掩模夹持设备、真空处理系统和操作基板载体的方法 [P].

安德里亚斯·索尔 ;

迈克尔·雷纳·舒尔特海斯 ;

沃尔夫冈·布什贝克 ;

安德里亚斯·勒普 ;

马蒂亚斯·赫曼尼斯 ;

塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 .

中国专利 :CN110073481A ,2019-07-30

[2]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

村田启史 ;

八尾宪治 ;

榎本正志 .

日本专利 :CN119028866A ,2024-11-26

[3]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理系统 [P].

井上正史 ;

泷昭彦 ;

谷口宽树 ;

田中孝佳 ;

中野佑太 .

中国专利 :CN108257890B ,2018-07-06

[4]

基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统 [P].

有贺美辉 ;

山崎和良 ;

青山真太郎 ;

下村晃司 .

中国专利 :CN101326620B ,2008-12-17

[5]

基板处理方法、基板处理系统和基板处理装置 [P].

榎本正志 ;

近藤良弘 .

中国专利 :CN107533955A ,2018-01-02

[6]

基板处理装置、基板处理系统和基板处理方法 [P].

刘福强 ;

王嘉琪 ;

史霄 ;

张康 ;

吴尚东 .

中国专利 :CN117650079A ,2024-03-05

[7]

基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统 [P].

村冈祐介 ;

齐藤公续 ;

岩田智巳 ;

深津英司 ;

溝端一国雄 ;

上野博之 ;

奥山靖夫 ;

蒲隆 ;

坂下由彦 ;

渡边克充 ;

宗政淳 ;

大柴久典 ;

猿丸正悟 .

中国专利 :CN1501439A ,2004-06-02

[8]

基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统 [P].

安俊建 ;

李廷焕 ;

权五烈 ;

朴修永 ;

梁承太 .

中国专利 :CN111843218A ,2020-10-30

[9]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

熊谷圭惠 ;

须田隆太郎 ;

户村幕树 ;

大内健次 ;

村上博纪 ;

加贺谷宗仁 ;

酒井宗一朗 .

中国专利 :CN114512398A ,2022-05-17

[10]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

森晃一 ;

吉原贤一 ;

向井正行 .

中国专利 :CN101839644A ,2010-09-22

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