电化学机械抛光装置及包括其的晶圆加工设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411538288.8
申请日
2024-10-31
公开(公告)号
CN119388317A
公开(公告)日
2025-02-07
发明(设计)人
吴大亮 孙新颖
申请人
华海清科股份有限公司
申请人地址
300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴道11号
IPC主分类号
B24B37/10
IPC分类号
B24B37/20 B24B37/26 B24B37/34 B24B57/02 C25F3/30 C25F7/00
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
天津市 市辖区
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共 50 条
[1]
电化学机械抛光装置 [P]. 
倪建明 .
中国专利 :CN105710761A ,2016-06-29
[2]
一种电化学机械抛光设备 [P]. 
吴尚东 ;
史霄 ;
刘福强 ;
尹影 ;
李婷 .
中国专利 :CN119077609A ,2024-12-06
[3]
晶圆化学机械抛光设备和晶圆化学机械抛光方法 [P]. 
具滋贤 .
中国专利 :CN120480796A ,2025-08-15
[4]
用于电化学机械抛光的抛光垫 [P]. 
J·G·埃米恩 ;
D·B·詹姆斯 .
中国专利 :CN100385631C ,2005-11-30
[5]
用于电化学机械抛光的抛光垫 [P]. 
罗兰·K·塞维利亚 .
中国专利 :CN1809445A ,2006-07-26
[6]
一种处理导电型晶圆衬底的电化学机械抛光及平坦化设备 [P]. 
邓耀敏 ;
朱政挺 ;
王东辉 .
中国专利 :CN117984221A ,2024-05-07
[7]
用于电化学机械抛光的抛光垫 [P]. 
李·M.·库克 ;
戴维·B.·詹姆斯 ;
约翰·V.·H·罗伯兹 .
中国专利 :CN100347825C ,2005-09-07
[8]
一种电化学机械抛光及平坦化装置 [P]. 
顾海洋 ;
时泽健 ;
朱政挺 ;
朱自强 ;
杨渊思 .
中国专利 :CN120206393A ,2025-06-27
[9]
一种电化学机械抛光及平坦化装置 [P]. 
顾海洋 ;
时泽健 ;
朱政挺 ;
朱自强 ;
杨渊思 .
中国专利 :CN222843823U ,2025-05-09
[10]
一种电化学机械抛光头及抛光装置 [P]. 
王子睿 ;
王永光 ;
刘庆升 ;
丁钊 ;
朱睿 ;
成锋 ;
师晓曼 ;
彭超 .
中国专利 :CN116423384B ,2024-06-21