量测系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380048909.1

申请日：

2023-07-25

公开(公告)号：

CN119404140A

公开(公告)日：

2025-02-07

发明(设计)人：

尹昶植 A·E·A·库伦 J·N·M·霍格维尔德 A·朱博尔 R·C·齐默曼 A·K·罗布金玉玮郑舒婷 V·T·坦纳魏旭康 L·K·L·古特克斯

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G01N21/956

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

姚宗妮

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-07	公开	公开
2025-08-26	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20230725

共 50 条

[1]

量测系统、光刻装置和校准方法 [P].

N·梅塔 ;

P·J·迈耶 .

中国专利 :CN113424108A ,2021-09-21

[2]

量测卡、量测系统及量测方法 [P].

张育维 ;

杨茆世芳 ;

马天彦 .

中国专利 :CN117804330A ,2024-04-02

[3]

量测系统、光刻设备和方法 [P].

林宇翔 ;

J·亚当斯 .

中国专利 :CN113439240A ,2021-09-24

[4]

照射系统和量测系统 [P].

J·M·M·德维特 ;

K·G·菲金 ;

A·J·C·斯基本 ;

M·玛森 ;

H·M·J·范德格罗伊斯 .

中国专利 :CN108700834B ,2018-10-23

[5]

光刻设备、量测系统、照射源及其方法 [P].

M·P·瑞因德斯 ;

M·斯威拉姆 .

中国专利 :CN114902142A ,2022-08-12

[6]

光刻设备、量测系统、照射源及其方法 [P].

M·P·瑞因德斯 ;

M·斯威拉姆 .

:CN114902142B ,2025-05-02

[7]

光刻设备、量测系统及其方法 [P].

S·R·惠斯曼 ;

S·马利克 ;

林宇翔 ;

D·M·斯洛特布姆 .

中国专利 :CN115698866A ,2023-02-03

[8]

电路板的量测方法、量测系统和量测装置 [P].

罗国瑜 .

中国专利 :CN118250906A ,2024-06-25

[9]

多层量测系统和方法 [P].

L·K·L·古特克斯 ;

S·A·戈登 .

:CN120858315A ,2025-10-28

[10]

量测系统与量测方法 [P].

张钰林 ;

童凯炀 ;

林茂青 .

中国专利 :CN107966625A ,2018-04-27

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