等离子体处理装置及其制造方法和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111292961.0

申请日：

2021-11-03

公开(公告)号：

CN114496701B

公开(公告)日：

2025-02-25

发明(设计)人：

塚本浩贵佐藤亮笠原稔大

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;刘芃茜

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-25	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理装置及其制造方法和等离子体处理方法 [P].

塚本浩贵 ;

佐藤亮 ;

笠原稔大 .

中国专利 :CN114496701A ,2022-05-13

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松本直树 ;

舆水地盐 ;

早川欣延 ;

花冈秀敏 ;

岩田学 ;

田中谕志 .

中国专利 :CN101661863A ,2010-03-03

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松本直树 ;

舆水地盐 ;

早川欣延 ;

花冈秀敏 ;

岩田学 ;

田中谕志 .

中国专利 :CN101047114A ,2007-10-03

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN110544613A ,2019-12-06

[8]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

大矢欣伸 ;

田边明良 ;

安田吉纪 .

中国专利 :CN104599930A ,2015-05-06

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

阪根亮太 ;

小林秀行 ;

长畑寿 ;

罗重佑 .

中国专利 :CN108172493B ,2018-06-15

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN101847558B ,2010-09-29

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