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半导体晶片质量计量装置和半导体晶片质量计量方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980026826.6
申请日：
2019-04-03
公开(公告)号：
CN112368814B
公开(公告)日：
2025-02-28
发明(设计)人：
格雷戈尔·埃里奥特
埃里克·汤尼斯
申请人：
美特拉斯有限公司
申请人地址：
英国布里斯托尔
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01L21/677
代理机构：
上海胜康律师事务所 31263
代理人：
樊英如;张华
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-02-28 | 授权 | 授权 |