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含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411171870.5
申请日：
2024-08-26
公开(公告)号：
CN119528965A
公开(公告)日：
2025-02-28
发明(设计)人：
岩森颂平 小林直贵 郡大佑 石绵健汰
申请人：
信越化学工业株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
C07F7/22
IPC分类号：
G03F7/00 H01L21/027
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李茂家
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-02-28 公开 公开
2025-03-18 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C07F 7/22申请日:20240826
共 50 条
[1]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P]. 
岩森颂平 ;
小林直贵 ;
郡大佑 ;
石绵健汰 ;
长町伸宏 .
日本专利 :CN120192340A ,2025-06-24
[2]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P]. 
岩森颂平 ;
小林直贵 ;
郡大佑 .
日本专利 :CN118496262A ,2024-08-16
[3]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P]. 
小林直贵 ;
长町伸宏 ;
石绵健汰 ;
泷泽彼方 ;
岩森颂平 ;
郡大佑 .
日本专利 :CN120209023A ,2025-06-27
[4]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P]. 
小林直贵 ;
长町伸宏 ;
石绵健汰 ;
泷泽彼方 ;
岩森颂平 ;
郡大佑 .
日本专利 :CN120209021A ,2025-06-27
[5]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P]. 
小林直贵 ;
长町伸宏 ;
郡大佑 .
日本专利 :CN118239972A ,2024-06-25
[6]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法、及含金属的膜形成用化合物的制造方法 [P]. 
小林直贵 ;
长町伸宏 ;
石绵健汰 ;
郡大佑 .
日本专利 :CN119285667A ,2025-01-10
[7]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P]. 
小林直贵 ;
长町伸宏 ;
石绵健汰 ;
郡大佑 .
日本专利 :CN120923535A ,2025-11-11
[8]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P]. 
岩森颂平 ;
小林直贵 ;
郡大佑 ;
石绵健汰 ;
长町伸宏 .
日本专利 :CN120192535A ,2025-06-24
[9]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P]. 
小林直贵 ;
长町伸宏 ;
石绵健汰 ;
泷泽彼方 ;
岩森颂平 ;
郡大佑 .
日本专利 :CN120209022A ,2025-06-27
[10]
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P]. 
长町伸宏 ;
小林直贵 ;
郡大佑 ;
石绵健汰 ;
岩森颂平 .
日本专利 :CN120329340A ,2025-07-18
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