レジストパターンメタル化プロセス用組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20240218198

申请日：

2024-12-12

公开(公告)号：

JP2025028184A

公开(公告)日：

2025-02-28

发明(设计)人：

SHIBAYAMA WATARU TAKEDA SATOSHI SHIGAKI SHUHEI ISHIBASHI KEN KATO HIROMASA NAKAJIMA MAKOTO

申请人：

NISSAN CHEMICAL CORP

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/40

IPC分类号：

C08K5/00 C08L83/08

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

レジストパターン塗布用組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016190261A1 ,2018-03-08

[2]

レジストパターン塗布用組成物[ja] [P].

SHIBAYAMA WATARU ;

NAKAJIMA MAKOTO ;

SHIGAKI SHUHEI ;

TANIGUCHI HIROAKI ;

SAKAMOTO RIKIMARU .

日本专利 :JP2022008804A ,2022-01-14

[3]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

TSUCHIYA JUNICHI ;

FUJISAKI MASAFUMI .

日本专利 :JP2022079741A ,2022-05-26

[4]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6130109B2 ,2017-05-17

[5]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物[ja] [P].

日本专利 :JP5846889B2 ,2016-01-20

[6]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6002430B2 ,2016-10-05

[7]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025177899A ,2025-12-05

[8]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22

[9]

化合物、レジスト組成物、レジストパターン形成方法。[ja] [P].

日本专利 :JP6118533B2 ,2017-04-19

[10]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020054449A1 ,2021-08-30

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