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レジストパターン塗布用組成物[ja]

被引：0
申请号：
JP20170520692
申请日：
2016-05-20
公开(公告)号：
JPWO2016190261A1
公开(公告)日：
2018-03-08
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/40
IPC分类号：
G03F7/20 G03F7/32 H01L21/027
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
レジストパターン塗布用組成物[ja] [P]. 
SHIBAYAMA WATARU ;
NAKAJIMA MAKOTO ;
SHIGAKI SHUHEI ;
TANIGUCHI HIROAKI ;
SAKAMOTO RIKIMARU .
日本专利 :JP2022008804A ,2022-01-14
[2]
レジストパターン被覆用塗布液[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016043317A1 ,2017-06-29
[3]
レジストパターンメタル化プロセス用組成物[ja] [P]. 
SHIBAYAMA WATARU ;
TAKEDA SATOSHI ;
SHIGAKI SHUHEI ;
ISHIBASHI KEN ;
KATO HIROMASA ;
NAKAJIMA MAKOTO .
日本专利 :JP2025028184A ,2025-02-28
[4]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6130109B2 ,2017-05-17
[5]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP5846889B2 ,2016-01-20
[6]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6002430B2 ,2016-10-05
[7]
化合物、レジスト組成物、レジストパターン形成方法。[ja] [P]. 
日本专利 :JP6118533B2 ,2017-04-19
[8]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025177899A ,2025-12-05
[9]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22
[10]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020054449A1 ,2021-08-30
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