レジストパターン被覆用塗布液[ja]

被引:0
申请号
JP20160548967
申请日
2015-09-18
公开(公告)号
JPWO2016043317A1
公开(公告)日
2017-06-29
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F7/40
IPC分类号
C09D7/12 C09D133/00 C09D201/04 C09D201/06
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
レジストパターン塗布用組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016190261A1 ,2018-03-08
[3]
レジストパターン塗布用組成物[ja] [P]. 
SHIBAYAMA WATARU ;
NAKAJIMA MAKOTO ;
SHIGAKI SHUHEI ;
TANIGUCHI HIROAKI ;
SAKAMOTO RIKIMARU .
日本专利 :JP2022008804A ,2022-01-14
[4]
レジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025157761A ,2025-10-16
[5]
レジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025157762A ,2025-10-16
[6]
レジストパターン形成方法及びレジスト[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017169807A1 ,2019-02-14
[7]
[8]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015137485A1 ,2017-04-06
[10]