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レジストパターン被覆用塗布液[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160548967
申请日
:
2015-09-18
公开(公告)号
:
JPWO2016043317A1
公开(公告)日
:
2017-06-29
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/40
IPC分类号
:
C09D7/12
C09D133/00
C09D201/04
C09D201/06
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
レジストパターン被覆用塗布液及びパターンの形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016158507A1
,2018-01-25
[2]
レジストパターン塗布用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016190261A1
,2018-03-08
[3]
レジストパターン塗布用組成物[ja]
[P].
SHIBAYAMA WATARU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NISSAN CHEMICAL CORP
SHIBAYAMA WATARU
;
NAKAJIMA MAKOTO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NISSAN CHEMICAL CORP
NAKAJIMA MAKOTO
;
SHIGAKI SHUHEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NISSAN CHEMICAL CORP
SHIGAKI SHUHEI
;
TANIGUCHI HIROAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NISSAN CHEMICAL CORP
TANIGUCHI HIROAKI
;
SAKAMOTO RIKIMARU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NISSAN CHEMICAL CORP
SAKAMOTO RIKIMARU
.
日本专利
:JP2022008804A
,2022-01-14
[4]
レジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025157761A
,2025-10-16
[5]
レジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025157762A
,2025-10-16
[6]
レジストパターン形成方法及びレジスト[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017169807A1
,2019-02-14
[7]
レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025150335A
,2025-10-09
[8]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015137485A1
,2017-04-06
[9]
レジストパターンコーティング剤及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010032839A1
,2012-02-16
[10]
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022095647A
,2022-06-28
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