KrF光刻胶组合物及光刻胶膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411304176.6

申请日：

2024-09-19

公开(公告)号：

CN119596639A

公开(公告)日：

2025-03-11

发明(设计)人：

方书农陈海

申请人：

浙江新盈电子材料有限公司

申请人地址：

313018 浙江省湖州市南浔区菱湖镇吉兆路578号

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C08F212/14 C08F220/36 C08F220/28

代理机构：

北京元本知识产权代理事务所(普通合伙) 11308

代理人：

喻蓉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240919
2025-03-11	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶添加剂及光刻胶组合物 [P].

李青松 ;

刘永祥 ;

杨鹏 ;

韩红彦 ;

焦成成 .

中国专利 :CN119591780A ,2025-03-11

[2]

光刻胶组合物 [P].

釜渊明 ;

山下裕子 .

中国专利 :CN102023479A ,2011-04-20

[3]

光刻胶组合物 [P].

俞昇濬 ;

林翼喆 ;

金昌昱 ;

姜纪旭 .

中国专利 :CN1109925C ,1998-02-18

[4]

光刻胶组合物 [P].

山口训史 ;

金淳信 ;

吉田勋 ;

市川幸司 .

中国专利 :CN102033426A ,2011-04-27

[5]

光刻胶组合物 [P].

J·F·卡梅伦 ;

S·J·姜 ;

J·W·成 .

中国专利 :CN103076720A ,2013-05-01

[6]

光刻胶组合物 [P].

J·F·卡梅隆 .

中国专利 :CN1667510A ,2005-09-14

[7]

光刻胶组合物 [P].

市川幸司 ;

坂本宏 ;

杉原昌子 ;

平冈崇志 .

中国专利 :CN102023482A ,2011-04-20

[8]

光刻胶组合物 [P].

李明琦 ;

E·阿恰达 ;

刘骢 ;

陈庆隆 ;

山田晋太郎 ;

C-B·徐 ;

J·玛蒂亚 .

中国专利 :CN102799068B ,2012-11-28

[9]

光刻胶组合物 [P].

J·F·卡梅伦 ;

S·J·姜 ;

J·W·成 .

中国专利 :CN1837957A ,2006-09-27

[10]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

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