表面处理剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202180085749.9

申请日：

2021-12-14

公开(公告)号：

CN116635494B

公开(公告)日：

2025-03-21

发明(设计)人：

山下恒雄前平健三桥尚志

申请人：

大金工业株式会社

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

C08G65/336

IPC分类号：

C09K3/18 C09K3/00 C09D171/02

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;王磊

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-21	授权	授权

共 50 条

[1]

表面处理剂 [P].

山下恒雄 ;

前平健 ;

片冈真奈美 ;

内藤真人 ;

三桥尚志 ;

山口史彦 .

日本专利 :CN117813362A ,2024-04-02

[2]

表面处理剂 [P].

山下恒雄 ;

前平健 ;

胜川健一 ;

三桥尚志 .

中国专利 :CN114072475B ,2022-02-18

[3]

表面处理剂 [P].

三桥尚志 ;

胜川健一 .

中国专利 :CN110003701A ,2019-07-12

[4]

表面处理剂 [P].

山下恒雄 ;

前平健 ;

三桥尚志 .

日本专利 :CN114206986B ,2024-07-26

[5]

表面处理剂 [P].

西江健二 ;

矢熊纪子 ;

古川良昭 .

中国专利 :CN101348913A ,2009-01-21

[6]

表面处理剂 [P].

半田晋也 ;

野村孝史 ;

松井元志 ;

G·托尔蒂西耶 ;

高田昌和 ;

中野希望 ;

大向吉景 ;

高野真也 .

日本专利 :CN117813311A ,2024-04-02

[7]

表面处理剂 [P].

山口史彦 ;

野村孝史 ;

内藤真人 ;

片冈真奈美 ;

G·托尔蒂西耶 .

日本专利 :CN116640498B ,2025-04-22

[8]

表面处理剂 [P].

丸桥和希 ;

小泽香织 ;

三桥尚志 .

中国专利 :CN113728034A ,2021-11-30

[9]

表面处理剂 [P].

福田晃之 ;

石井大贵 .

中国专利 :CN109016719A ,2018-12-18

[10]

表面处理剂 [P].

能势雅聪 ;

三桥尚志 .

中国专利 :CN112739789A ,2021-04-30

← 1 2 3 4 5 →