表面处理剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310142082.2

申请日：

2023-02-21

公开(公告)号：

CN116640498B

公开(公告)日：

2025-04-22

发明(设计)人：

山口史彦野村孝史内藤真人片冈真奈美 G·托尔蒂西耶

申请人：

大金工业株式会社

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

C09D171/02

IPC分类号：

C09D5/16 C09D7/65 C09D7/63 C03C17/28 C03C17/30

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;邸万杰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-22	授权	授权

共 50 条

[1]

表面处理剂 [P].

徐润响 ;

福田矩章 ;

阪本英司 .

日本专利 :CN120365825A ,2025-07-25

[2]

表面处理剂 [P].

山下恒雄 ;

前平健 ;

片冈真奈美 ;

内藤真人 ;

三桥尚志 ;

山口史彦 .

日本专利 :CN117813362A ,2024-04-02

[3]

表面处理剂 [P].

山下恒雄 ;

前平健 ;

三桥尚志 .

日本专利 :CN114206986B ,2024-07-26

[4]

表面处理剂 [P].

山下恒雄 ;

前平健 ;

三桥尚志 .

中国专利 :CN114206986A ,2022-03-18

[5]

表面处理剂 [P].

渡边裕介 ;

小泽香织 ;

三桥尚志 ;

山下恒雄 ;

后藤章广 ;

久保田大贵 .

日本专利 :CN117396578A ,2024-01-12

[6]

表面处理剂 [P].

渡边裕介 ;

前平健 ;

山下恒雄 ;

三桥尚志 .

日本专利 :CN118974200A ,2024-11-15

[7]

表面处理剂 [P].

内藤真人 ;

G·托尔蒂西耶 ;

大向吉景 ;

半田晋也 ;

野村孝史 .

日本专利 :CN116724094B ,2025-05-16

[8]

表面处理剂 [P].

片冈真奈美 ;

野村孝史 ;

高野真也 ;

后藤章广 ;

渡边裕介 .

日本专利 :CN117836388A ,2024-04-05

[9]

表面处理剂 [P].

丸桥和希 ;

小泽香织 ;

三桥尚志 .

中国专利 :CN113728034A ,2021-11-30

[10]

表面处理剂 [P].

能势雅聪 ;

三桥尚志 .

中国专利 :CN112739789A ,2021-04-30

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