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表面处理剂

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410092537.9
申请日：
2024-01-23
公开(公告)号：
CN120365825A
公开(公告)日：
2025-07-25
发明(设计)人：
徐润响 福田矩章 阪本英司
申请人：
大金工业株式会社
申请人地址：
日本大阪府
IPC主分类号：
C09D171/00
IPC分类号：
C09D7/63 C03C17/00
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人：
龙淳;谢弘
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-07-25 公开 公开
共 50 条
[1]
表面处理剂 [P]. 
山口史彦 ;
野村孝史 ;
内藤真人 ;
片冈真奈美 ;
G·托尔蒂西耶 .
日本专利 :CN116640498B ,2025-04-22
[2]
表面处理剂 [P]. 
山下恒雄 ;
前平健 ;
片冈真奈美 ;
内藤真人 ;
三桥尚志 ;
山口史彦 .
日本专利 :CN117813362A ,2024-04-02
[3]
表面处理剂 [P]. 
山下恒雄 ;
前平健 ;
三桥尚志 .
日本专利 :CN114206986B ,2024-07-26
[4]
表面处理剂 [P]. 
山下恒雄 ;
前平健 ;
三桥尚志 .
中国专利 :CN114206986A ,2022-03-18
[5]
表面处理剂 [P]. 
渡边裕介 ;
小泽香织 ;
三桥尚志 ;
山下恒雄 ;
后藤章广 ;
久保田大贵 .
日本专利 :CN117396578A ,2024-01-12
[6]
表面处理剂 [P]. 
渡边裕介 ;
前平健 ;
山下恒雄 ;
三桥尚志 .
日本专利 :CN118974200A ,2024-11-15
[7]
表面处理剂 [P]. 
三桥尚志 ;
野村孝史 ;
松井元志 ;
小泽香织 ;
H·舍恩 ;
A·查维斯 ;
M·伍斯科 ;
A·H·麦金斯特里 .
中国专利 :CN114450361A ,2022-05-06
[8]
表面处理剂 [P]. 
内藤真人 ;
G·托尔蒂西耶 ;
大向吉景 ;
半田晋也 ;
野村孝史 .
日本专利 :CN116724094B ,2025-05-16
[9]
表面处理剂 [P]. 
片冈真奈美 ;
野村孝史 ;
高野真也 ;
后藤章广 ;
渡边裕介 .
日本专利 :CN117836388A ,2024-04-05
[10]
表面处理剂 [P]. 
石井大贵 ;
本多义昭 ;
前平健 ;
中野希望 .
中国专利 :CN108495907B ,2018-09-04
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