光运算装置、光运算装置的学习方法以及光运算装置的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380057115.1

申请日：

2023-05-26

公开(公告)号：

CN119631085A

公开(公告)日：

2025-03-14

发明(设计)人：

日下裕幸柏木正浩

申请人：

株式会社藤仓

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

G06N3/067

IPC分类号：

G02F1/09 G02F1/13 G02F3/00 G06E3/00 G06N3/09

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

邰琳琳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-14	公开	公开
2025-04-01	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G06N 3/067申请日:20230526

共 50 条

[1]

光运算装置 [P].

浅冈瞬 ;

日下裕幸 ;

柏木正浩 ;

大竹守 .

日本专利 :CN119563137A ,2025-03-04

[2]

光运算装置 [P].

日下裕幸 ;

柏木正浩 .

中国专利 :CN115605823A ,2023-01-13

[3]

光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法 [P].

山田慎吾 ;

森山久美子 ;

美作昌宏 .

中国专利 :CN108693697B ,2018-10-23

[4]

图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的制造方法 [P].

尾崎太一 .

中国专利 :CN112578631A ,2021-03-30

[5]

图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的制造方法 [P].

尾崎太一 .

日本专利 :CN112578631B ,2025-06-20

[6]

光部件的制造方法和光部件 [P].

长能重博 ;

盐崎学 ;

荒生肇 ;

中西哲也 .

日本专利 :CN118215862A ,2024-06-18

[7]

光源装置以及投光装置 [P].

深草雅春 .

中国专利 :CN110418917A ,2019-11-05

[8]

光源装置以及投光装置 [P].

深草雅春 .

中国专利 :CN108027118A ,2018-05-11

[9]

光产生装置、具备光产生装置的曝光装置、曝光系统、光产生方法及曝光光致抗蚀剂制造方法 [P].

坂本盛嗣 ;

野田浩平 ;

膝附拓也 ;

小野浩司 ;

川月喜弘 ;

后藤耕平 ;

筒井皇晶 .

中国专利 :CN111356957A ,2020-06-30

[10]

光检测方法、光检测装置和程序 [P].

森田宽 ;

鸟羽一彰 ;

山本真也 ;

上田健二朗 ;

高桥辽平 .

中国专利 :CN110168310B ,2019-08-23

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