化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411628960.2

申请日：

2024-11-15

公开(公告)号：

CN119144288B

公开(公告)日：

2025-03-14

发明(设计)人：

方炳程金军仝开宇陈佳蕊

申请人：

华海清科股份有限公司

申请人地址：

300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴道11号

IPC主分类号：

C09K3/14

IPC分类号：

C09G1/02 H01L21/306

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

天津市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-03	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09K 3/14申请日:20241115
2025-03-14	授权	授权
2024-12-17	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用 [P].

方炳程 ;

金军 ;

仝开宇 ;

陈佳蕊 .

中国专利 :CN119144288A ,2024-12-17

[2]

化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用 [P].

王永东 ;

卞鹏程 ;

王瑞芹 ;

徐贺 ;

李国庆 ;

王庆伟 ;

朱林君 .

中国专利 :CN118406439A ,2024-07-30

[3]

化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用 [P].

王永东 ;

卞鹏程 ;

王瑞芹 ;

徐贺 ;

李国庆 ;

王庆伟 ;

朱林君 .

中国专利 :CN118406439B ,2024-10-18

[4]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[5]

一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用 [P].

梁珂 ;

徐锋 ;

王宏宇 ;

殷华 .

中国专利 :CN119162578B ,2025-06-20

[6]

化学机械抛光组合物 [P].

C·达施莱茵 ;

M·西伯特 ;

兰永清 ;

M·劳特尔 ;

S·A·奥斯曼易卜拉欣 ;

R·戈扎里安 ;

魏得育 ;

H·O·格文茨 ;

J·普罗尔斯 ;

L·勒尼森 .

中国专利 :CN111356747A ,2020-06-30

[7]

一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用 [P].

梁珂 ;

徐锋 ;

王宏宇 ;

殷华 .

中国专利 :CN119162578A ,2024-12-20

[8]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[9]

化学机械抛光方法和化学机械抛光设备 [P].

邵群 ;

王庆玲 .

中国专利 :CN103035504B ,2013-04-10

[10]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

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