一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用

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专利类型
发明
申请号
CN202411284875.9
申请日
2024-09-13
公开(公告)号
CN119162578B
公开(公告)日
2025-06-20
发明(设计)人
梁珂 徐锋 王宏宇 殷华
申请人
天津派森新材料技术有限责任公司
申请人地址
300457 天津市滨海新区开发区南港工业区港通路29号厂房6号
IPC主分类号
C23F3/04
IPC分类号
C09G1/02
代理机构
北京中和立达知识产权代理有限公司 11756
代理人
杨磊
法律状态
授权
国省代码
河北省 石家庄市
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共 50 条
[1]
一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用 [P]. 
梁珂 ;
徐锋 ;
王宏宇 ;
殷华 .
中国专利 :CN119162578A ,2024-12-20
[2]
化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用 [P]. 
王永东 ;
卞鹏程 ;
王瑞芹 ;
徐贺 ;
李国庆 ;
王庆伟 ;
朱林君 .
中国专利 :CN118406439A ,2024-07-30
[3]
化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用 [P]. 
王永东 ;
卞鹏程 ;
王瑞芹 ;
徐贺 ;
李国庆 ;
王庆伟 ;
朱林君 .
中国专利 :CN118406439B ,2024-10-18
[4]
一种铜化学机械抛光液及其应用和化学机械抛光方法 [P]. 
卞鹏程 ;
崔晓坤 ;
王庆伟 .
中国专利 :CN114958206B ,2024-02-02
[5]
化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用 [P]. 
方炳程 ;
金军 ;
仝开宇 ;
陈佳蕊 .
中国专利 :CN119144288A ,2024-12-17
[6]
化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用 [P]. 
方炳程 ;
金军 ;
仝开宇 ;
陈佳蕊 .
中国专利 :CN119144288B ,2025-03-14
[7]
一种铜化学机械抛光组合物 [P]. 
顾忠华 ;
龚桦 ;
王宁 ;
潘国顺 .
中国专利 :CN102329572B ,2012-01-25
[8]
化学机械抛光组合物 [P]. 
C·达施莱茵 ;
M·西伯特 ;
兰永清 ;
M·劳特尔 ;
S·A·奥斯曼易卜拉欣 ;
R·戈扎里安 ;
魏得育 ;
H·O·格文茨 ;
J·普罗尔斯 ;
L·勒尼森 .
中国专利 :CN111356747A ,2020-06-30
[9]
化学机械抛光(CMP)组合物 [P]. 
R·赖夏特 ;
M·西伯特 ;
兰永清 ;
M·劳特尔 ;
H·O·格文茨 ;
J·普罗尔斯 ;
S·A·奥斯曼易卜拉欣 ;
R·戈扎里安 .
中国专利 :CN106661382B ,2017-05-10
[10]
化学机械抛光组合物和抛光铜基材的方法 [P]. 
夏欣妍 ;
欧阳广成 ;
肖桂林 ;
张季平 ;
高越 ;
夏元玲 ;
甄臻 ;
欧阳吉红 ;
汤舒嵋 .
中国专利 :CN120905676A ,2025-11-07