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一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411284875.9
申请日
:
2024-09-13
公开(公告)号
:
CN119162578B
公开(公告)日
:
2025-06-20
发明(设计)人
:
梁珂
徐锋
王宏宇
殷华
申请人
:
天津派森新材料技术有限责任公司
申请人地址
:
300457 天津市滨海新区开发区南港工业区港通路29号厂房6号
IPC主分类号
:
C23F3/04
IPC分类号
:
C09G1/02
代理机构
:
北京中和立达知识产权代理有限公司 11756
代理人
:
杨磊
法律状态
:
授权
国省代码
:
河北省 石家庄市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-06-20
授权
授权
2025-01-07
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C23F 3/04申请日:20240913
2024-12-20
公开
公开
共 50 条
[1]
一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用
[P].
梁珂
论文数:
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机构:
天津派森新材料技术有限责任公司
天津派森新材料技术有限责任公司
梁珂
;
徐锋
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机构:
天津派森新材料技术有限责任公司
天津派森新材料技术有限责任公司
徐锋
;
王宏宇
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机构:
天津派森新材料技术有限责任公司
天津派森新材料技术有限责任公司
王宏宇
;
殷华
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机构:
天津派森新材料技术有限责任公司
天津派森新材料技术有限责任公司
殷华
.
中国专利
:CN119162578A
,2024-12-20
[2]
化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用
[P].
王永东
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王永东
;
卞鹏程
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
卞鹏程
;
王瑞芹
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王瑞芹
;
徐贺
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
徐贺
;
李国庆
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
李国庆
;
王庆伟
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王庆伟
;
朱林君
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
朱林君
.
中国专利
:CN118406439A
,2024-07-30
[3]
化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用
[P].
王永东
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王永东
;
卞鹏程
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
卞鹏程
;
王瑞芹
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王瑞芹
;
徐贺
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
徐贺
;
李国庆
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
李国庆
;
王庆伟
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王庆伟
;
朱林君
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
朱林君
.
中国专利
:CN118406439B
,2024-10-18
[4]
一种铜化学机械抛光液及其应用和化学机械抛光方法
[P].
卞鹏程
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
卞鹏程
;
崔晓坤
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
崔晓坤
;
王庆伟
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王庆伟
.
中国专利
:CN114958206B
,2024-02-02
[5]
化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用
[P].
方炳程
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华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
方炳程
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金军
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华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
金军
;
仝开宇
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华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
仝开宇
;
陈佳蕊
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华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
陈佳蕊
.
中国专利
:CN119144288A
,2024-12-17
[6]
化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用
[P].
方炳程
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华海清科股份有限公司
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方炳程
;
金军
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华海清科股份有限公司
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金军
;
仝开宇
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仝开宇
;
陈佳蕊
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华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
陈佳蕊
.
中国专利
:CN119144288B
,2025-03-14
[7]
一种铜化学机械抛光组合物
[P].
顾忠华
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顾忠华
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龚桦
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龚桦
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王宁
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王宁
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潘国顺
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潘国顺
.
中国专利
:CN102329572B
,2012-01-25
[8]
化学机械抛光组合物
[P].
C·达施莱茵
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C·达施莱茵
;
M·西伯特
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M·西伯特
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兰永清
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兰永清
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M·劳特尔
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M·劳特尔
;
S·A·奥斯曼易卜拉欣
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S·A·奥斯曼易卜拉欣
;
R·戈扎里安
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R·戈扎里安
;
魏得育
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魏得育
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H·O·格文茨
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H·O·格文茨
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J·普罗尔斯
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J·普罗尔斯
;
L·勒尼森
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L·勒尼森
.
中国专利
:CN111356747A
,2020-06-30
[9]
化学机械抛光(CMP)组合物
[P].
R·赖夏特
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R·赖夏特
;
M·西伯特
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M·西伯特
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兰永清
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兰永清
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M·劳特尔
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M·劳特尔
;
H·O·格文茨
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H·O·格文茨
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J·普罗尔斯
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J·普罗尔斯
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S·A·奥斯曼易卜拉欣
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S·A·奥斯曼易卜拉欣
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R·戈扎里安
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R·戈扎里安
.
中国专利
:CN106661382B
,2017-05-10
[10]
化学机械抛光组合物和抛光铜基材的方法
[P].
夏欣妍
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机构:
武汉鼎泽新材料技术有限公司
武汉鼎泽新材料技术有限公司
夏欣妍
;
欧阳广成
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机构:
武汉鼎泽新材料技术有限公司
武汉鼎泽新材料技术有限公司
欧阳广成
;
肖桂林
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机构:
武汉鼎泽新材料技术有限公司
武汉鼎泽新材料技术有限公司
肖桂林
;
张季平
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机构:
武汉鼎泽新材料技术有限公司
武汉鼎泽新材料技术有限公司
张季平
;
高越
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机构:
武汉鼎泽新材料技术有限公司
武汉鼎泽新材料技术有限公司
高越
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夏元玲
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机构:
武汉鼎泽新材料技术有限公司
武汉鼎泽新材料技术有限公司
夏元玲
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甄臻
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机构:
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甄臻
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欧阳吉红
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机构:
武汉鼎泽新材料技术有限公司
武汉鼎泽新材料技术有限公司
欧阳吉红
;
汤舒嵋
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机构:
武汉鼎泽新材料技术有限公司
武汉鼎泽新材料技术有限公司
汤舒嵋
.
中国专利
:CN120905676A
,2025-11-07
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