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一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411284875.9
申请日
:
2024-09-13
公开(公告)号
:
CN119162578B
公开(公告)日
:
2025-06-20
发明(设计)人
:
梁珂
徐锋
王宏宇
殷华
申请人
:
天津派森新材料技术有限责任公司
申请人地址
:
300457 天津市滨海新区开发区南港工业区港通路29号厂房6号
IPC主分类号
:
C23F3/04
IPC分类号
:
C09G1/02
代理机构
:
北京中和立达知识产权代理有限公司 11756
代理人
:
杨磊
法律状态
:
授权
国省代码
:
河北省 石家庄市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-06-20
授权
授权
2025-01-07
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C23F 3/04申请日:20240913
2024-12-20
公开
公开
共 50 条
[21]
铜的化学机械抛光浆料
[P].
荆建芬
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荆建芬
;
宋伟红
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宋伟红
;
顾元
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顾元
;
徐春
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徐春
;
宋鹰
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宋鹰
.
中国专利
:CN1955239A
,2007-05-02
[22]
化学机械抛光组合物及使用其的化学机械抛光方法
[P].
北村启
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北村启
;
并木明久
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并木明久
;
增田刚
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增田刚
;
松村义之
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松村义之
.
中国专利
:CN114829521A
,2022-07-29
[23]
化学机械抛光组合物及使用其的化学机械抛光方法
[P].
北村启
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机构:
CMC材料株式会社
CMC材料株式会社
北村启
;
并木明久
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CMC材料株式会社
CMC材料株式会社
并木明久
;
增田刚
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CMC材料株式会社
CMC材料株式会社
增田刚
;
松村义之
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机构:
CMC材料株式会社
CMC材料株式会社
松村义之
.
日本专利
:CN114829521B
,2024-04-09
[24]
化学机械抛光装置和化学机械抛光方法
[P].
铃木三惠子
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铃木三惠子
;
土屋泰章
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土屋泰章
.
中国专利
:CN1098746C
,1999-09-01
[25]
化学机械抛光方法和化学机械抛光设备
[P].
邵群
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邵群
;
王庆玲
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王庆玲
.
中国专利
:CN103035504B
,2013-04-10
[26]
化学机械抛光垫和化学机械抛光方法
[P].
西村秀树
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西村秀树
;
清水崇文
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清水崇文
;
栗山敬祐
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栗山敬祐
;
辻昭卫
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辻昭卫
.
中国专利
:CN1990183A
,2007-07-04
[27]
化学机械抛光垫及化学机械抛光方法
[P].
志保浩司
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志保浩司
;
田野裕之
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田野裕之
;
保坂幸生
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保坂幸生
;
西村秀树
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西村秀树
.
中国专利
:CN1864929A
,2006-11-22
[28]
一种化学机械抛光浆料及其应用
[P].
荆建芬
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荆建芬
;
蔡鑫元
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蔡鑫元
.
中国专利
:CN102093818A
,2011-06-15
[29]
一种化学机械抛光组合物
[P].
谭明月
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
谭明月
;
王嵩
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
王嵩
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孙沉敏
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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孙沉敏
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孙金涛
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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孙金涛
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史经深
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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史经深
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赵有钱
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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赵有钱
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周凯瑞
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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周凯瑞
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王晨
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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王晨
.
中国专利
:CN120230473A
,2025-07-01
[30]
一种化学机械抛光组合物
[P].
王嵩
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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王嵩
;
谭明月
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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谭明月
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孙沉敏
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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孙沉敏
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孙金涛
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孙金涛
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吴涛
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吴涛
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顾钦源
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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顾钦源
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殷楠
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殷楠
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王晨
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机构:
安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
王晨
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中国专利
:CN120230474A
,2025-07-01
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