一种化学机械抛光组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311775789.3

申请日：

2023-12-22

公开(公告)号：

CN120230474A

公开(公告)日：

2025-07-01

发明(设计)人：

王嵩谭明月孙沉敏孙金涛吴涛顾钦源殷楠王晨

申请人：

安集微电子科技（上海）股份有限公司

申请人地址：

201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6－9幢底层

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

H01L21/306

代理机构：

上海市建纬律师事务所 31579

代理人：

李佳铭;王芳

法律状态：

公开

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-01	公开	公开

共 50 条

[1]

一种化学机械抛光组合物 [P].

谭明月 ;

王嵩 ;

孙沉敏 ;

孙金涛 ;

史经深 ;

赵有钱 ;

周凯瑞 ;

王晨 .

中国专利 :CN120230473A ,2025-07-01

[2]

化学机械抛光(CMP)组合物 [P].

R·赖夏特 ;

M·西伯特 ;

兰永清 ;

M·劳特尔 ;

H·O·格文茨 ;

J·普罗尔斯 ;

S·A·奥斯曼易卜拉欣 ;

R·戈扎里安 .

中国专利 :CN106661382B ,2017-05-10

[3]

化学机械抛光组合物 [P].

C·达施莱茵 ;

M·西伯特 ;

兰永清 ;

M·劳特尔 ;

S·A·奥斯曼易卜拉欣 ;

R·戈扎里安 ;

魏得育 ;

H·O·格文茨 ;

J·普罗尔斯 ;

L·勒尼森 .

中国专利 :CN111356747A ,2020-06-30

[4]

一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用 [P].

梁珂 ;

徐锋 ;

王宏宇 ;

殷华 .

中国专利 :CN119162578B ,2025-06-20

[5]

一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用 [P].

梁珂 ;

徐锋 ;

王宏宇 ;

殷华 .

中国专利 :CN119162578A ,2024-12-20

[6]

化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法 [P].

申东穆 ;

崔银美 ;

曹昇范 ;

河贤哲 .

中国专利 :CN101679810B ,2010-03-24

[7]

化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用 [P].

王永东 ;

卞鹏程 ;

王瑞芹 ;

徐贺 ;

李国庆 ;

王庆伟 ;

朱林君 .

中国专利 :CN118406439A ,2024-07-30

[8]

化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用 [P].

王永东 ;

卞鹏程 ;

王瑞芹 ;

徐贺 ;

李国庆 ;

王庆伟 ;

朱林君 .

中国专利 :CN118406439B ,2024-10-18

[9]

钨化学机械抛光组合物 [P].

富琳 ;

S.格拉宾 ;

J.戴萨德 ;

李常怡 .

中国专利 :CN106661430B ,2017-05-10

[10]

一种化学机械抛光组合物 [P].

潘国顺 ;

周艳 ;

罗桂海 ;

梁晓璐 ;

史晓磊 .

中国专利 :CN104312440A ,2015-01-28

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