光学临近修正模型的建模方法及光学临近修正方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202211320040.5

申请日：

2022-10-26

公开(公告)号：

CN115598922B

公开(公告)日：

2025-03-18

发明(设计)人：

王雷

申请人：

上海华虹宏力半导体制造有限公司

申请人地址：

201203 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区祖冲之路1399号

IPC主分类号：

G03F1/36

IPC分类号：

G03F1/44

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

郑星

法律状态：

授权

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-18	授权	授权

共 50 条

[1]

光学临近修正模型的建模方法及光学临近修正方法 [P].

王雷 .

中国专利 :CN115598922A ,2023-01-13

[2]

光学临近修正方法 [P].

胡红梅 .

中国专利 :CN103869600A ,2014-06-18

[3]

光学临近修正方法及装置 [P].

赵广 ;

罗招龙 ;

刘秀梅 .

中国专利 :CN114488681A ,2022-05-13

[4]

光学临近效应修正建模方法及装置 [P].

王康 ;

罗招龙 .

中国专利 :CN117170175B ,2024-01-30

[5]

光学临近效应修正方法 [P].

翟翠红 ;

张逸中 ;

于世瑞 .

中国专利 :CN109507847B ,2019-03-22

[6]

光学临近效应修正方法 [P].

陈福成 .

中国专利 :CN103513506A ,2014-01-15

[7]

一种光学临近修正方法 [P].

江春珂 .

中国专利 :CN119165720A ,2024-12-20

[8]

通孔层的光学临近修正方法 [P].

韩国庆 ;

吴姗姗 ;

金晓亮 ;

袁春雨 .

中国专利 :CN115146578B ,2025-07-22

[9]

跨越形貌的光学临近效应修正方法 [P].

陈福成 ;

阚欢 .

中国专利 :CN102478760A ,2012-05-30

[10]

改善工艺窗口的光学临近修正方法 [P].

何大权 ;

王伟斌 ;

顾婷婷 ;

魏芳 ;

张旭升 .

中国专利 :CN103744265A ,2014-04-23

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