光学临近修正方法及装置

被引：0

申请号：

CN202210335630.9

申请日：

2022-04-01

公开(公告)号：

CN114488681A

公开(公告)日：

2022-05-13

发明(设计)人：

赵广罗招龙刘秀梅

申请人：

申请人地址：

230012 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号

IPC主分类号：

G03F136

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

周耀君

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-19	授权	授权
2022-05-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20220401
2022-05-13	公开	公开

共 50 条

[1]

光学临近修正模型的建模方法及光学临近修正方法 [P].

王雷 .

中国专利 :CN115598922B ,2025-03-18

[2]

光学临近修正模型的建模方法及光学临近修正方法 [P].

王雷 .

中国专利 :CN115598922A ,2023-01-13

[3]

光学临近修正方法、装置及电子设备 [P].

王康 ;

罗招龙 ;

林建佑 ;

李可玉 ;

赵广 .

中国专利 :CN113253565A ,2021-08-13

[4]

光学临近效应修正方法 [P].

陈福成 .

中国专利 :CN103513506A ,2014-01-15

[5]

一种光学临近修正方法及装置 [P].

陈信廷 .

中国专利 :CN113495425A ,2021-10-12

[6]

一种光学临近修正方法 [P].

江春珂 .

中国专利 :CN119165720A ,2024-12-20

[7]

孔的光学临近效应修正方法 [P].

陈福成 ;

袁春雨 .

中国专利 :CN103048873A ,2013-04-17

[8]

光学临近修正方法、装置、电子设备及介质 [P].

朱凯民 .

中国专利 :CN120821144A ,2025-10-21

[9]

覆盖形貌的光学临近效应修正方法 [P].

陈福成 ;

阚欢 .

中国专利 :CN102486605A ,2012-06-06

[10]

光刻工艺中光学临近修正方法 [P].

李伟峰 .

中国专利 :CN106444272A ,2017-02-22

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