洗浄剤、水処理装置の洗浄方法、及びシリカ系スケールの洗浄方法[ja]

被引:0
申请号
JP20240550601
申请日
2023-01-16
公开(公告)号
JP2025506842A
公开(公告)日
2025-03-13
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C02F5/08
IPC分类号
C02F5/00 C02F5/10 C02F5/12 C02F5/14 C23G1/19
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
洗浄液、及び基板の洗浄方法[ja] [P]. 
GO CHOITSU ;
WADA YUKIHISA .
日本专利 :JP2024065698A ,2024-05-15
[2]
透過膜の洗浄剤及び洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013179775A1 ,2016-01-18
[3]
接水部材の洗浄液、洗浄剤および洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018168641A1 ,2019-03-28
[4]
[6]
洗浄剤組成物及び洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020166702A1 ,2021-12-16
[7]
洗浄剤セット及び洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7194253B1 ,2022-12-21
[8]
洗浄剤組成物及び洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023052705A ,2023-04-11
[10]
洗浄剤組成物及び洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020166704A1 ,2021-12-16