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洗浄剤、水処理装置の洗浄方法、及びシリカ系スケールの洗浄方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240550601
申请日
:
2023-01-16
公开(公告)号
:
JP2025506842A
公开(公告)日
:
2025-03-13
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C02F5/08
IPC分类号
:
C02F5/00
C02F5/10
C02F5/12
C02F5/14
C23G1/19
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
洗浄液、及び基板の洗浄方法[ja]
[P].
GO CHOITSU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
GO CHOITSU
;
WADA YUKIHISA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
WADA YUKIHISA
.
日本专利
:JP2024065698A
,2024-05-15
[2]
透過膜の洗浄剤及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013179775A1
,2016-01-18
[3]
接水部材の洗浄液、洗浄剤および洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018168641A1
,2019-03-28
[4]
分離膜用洗浄剤、該洗浄剤の製造方法及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008120509A1
,2010-07-15
[5]
芳香族ポリアミド系逆浸透膜の洗浄剤、洗浄液及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7136385B1
,2022-09-13
[6]
洗浄剤組成物及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020166702A1
,2021-12-16
[7]
洗浄剤セット及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7194253B1
,2022-12-21
[8]
洗浄剤組成物及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023052705A
,2023-04-11
[9]
洗浄剤組成物、基板の洗浄方法及び支持体又は基板の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020235605A1
,2021-10-28
[10]
洗浄剤組成物及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020166704A1
,2021-12-16
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