抛光垫及抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411803941.9

申请日：

2024-12-09

公开(公告)号：

CN119772778A

公开(公告)日：

2025-04-08

发明(设计)人：

罗乙杰刘聪高越

申请人：

湖北鼎汇微电子材料有限公司湖北鼎龙汇盛新材料有限公司湖北鼎龙控股股份有限公司

申请人地址：

430057 湖北省武汉市武汉经济技术开发区东荆河路1号411号房

IPC主分类号：

B24B37/22

IPC分类号：

B24B37/24 B24D3/00 B24B37/10 B24B7/22 C08G18/48

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

河南省郑州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/22申请日:20241209
2025-04-08	公开	公开

共 50 条

[1]

聚氨酯抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN1914241B ,2007-02-14

[2]

化学机械抛光垫的聚氨酯抛光层及其制备方法和应用、抛光垫 [P].

罗建勋 ;

王凯 ;

田骐源 ;

方璞 .

中国专利 :CN119039558A ,2024-11-29

[3]

抛光层、抛光垫及半导体器件的制造方法 [P].

罗乙杰 ;

毛丽华 ;

黄云鹏 ;

高越 .

中国专利 :CN119772780B ,2025-12-16

[4]

抛光层、抛光垫及半导体器件的制造方法 [P].

罗乙杰 ;

毛丽华 ;

黄云鹏 ;

高越 .

中国专利 :CN119772780A ,2025-04-08

[5]

CMP抛光垫 [P].

钱百年 ;

D·M·奥尔登 ;

M·西莫奇 ;

邱南荣 ;

曾圣桓 .

中国专利 :CN115555987A ,2023-01-03

[6]

用于抛光制品的抛光垫及抛光方法 [P].

R·V·帕拉帕思 .

中国专利 :CN100528487C ,2007-06-20

[7]

抛光垫及抛光方法 [P].

浅井舞子 ;

伊藤友一 ;

玉井一诚 ;

田原宗明 .

中国专利 :CN108698194A ,2018-10-23

[8]

一种抛光垫 [P].

罗乙杰 ;

刘敏 ;

朱顺全 .

中国专利 :CN109824854B ,2019-05-31

[9]

濑柳博 .

中国专利 :CN104955614A ,2015-09-30

[10]

中井良之 ;

木村毅 ;

数野淳 ;

小川一幸 ;

下村哲生 .

中国专利 :CN102152233A ,2011-08-17

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