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等离子体处理装置和温度测量方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380061306.5
申请日
:
2023-08-16
公开(公告)号
:
CN119744437A
公开(公告)日
:
2025-04-01
发明(设计)人
:
山田和人
田面木真也
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
H01L21/3065
IPC分类号
:
G05D23/00
H01L21/205
H01L21/31
H01L21/683
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;池兵
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-01
公开
公开
2025-04-18
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/3065申请日:20230816
共 50 条
[1]
等离子体处理装置及硅片温度测量方法
[P].
吴磊
论文数:
0
引用数:
0
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0
吴磊
;
涂乐义
论文数:
0
引用数:
0
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0
涂乐义
;
黄国民
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄国民
.
中国专利
:CN108010838B
,2018-05-08
[2]
F密度测量方法、等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
本田昌伸
论文数:
0
引用数:
0
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0
本田昌伸
.
中国专利
:CN1828274A
,2006-09-06
[3]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
江崎匠大
论文数:
0
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0
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0
江崎匠大
;
高桥雅典
论文数:
0
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0
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0
高桥雅典
;
山田和人
论文数:
0
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0
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0
山田和人
.
中国专利
:CN115527829A
,2022-12-27
[4]
等离子体处理装置和温度控制方法
[P].
山田和人
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山田和人
.
日本专利
:CN117438275A
,2024-01-23
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山岸幸司
论文数:
0
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0
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0
山岸幸司
;
白泽大辅
论文数:
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0
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0
白泽大辅
.
中国专利
:CN112992643A
,2021-06-18
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
内田阳平
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内田阳平
;
佐藤徹治
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤徹治
;
矢幡将二郎
论文数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
矢幡将二郎
;
高瀬均
论文数:
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
高瀬均
.
日本专利
:CN110993476B
,2024-05-24
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山田和人
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山田和人
;
远藤宏纪
论文数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
远藤宏纪
;
佐藤贵志
论文数:
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤贵志
.
日本专利
:CN112117178B
,2024-07-12
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
鸟井夏实
论文数:
0
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0
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0
鸟井夏实
;
永海幸一
论文数:
0
引用数:
0
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0
永海幸一
.
中国专利
:CN113948364A
,2022-01-18
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
内田阳平
论文数:
0
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0
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0
内田阳平
;
佐藤徹治
论文数:
0
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佐藤徹治
;
矢幡将二郎
论文数:
0
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0
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0
矢幡将二郎
;
高瀬均
论文数:
0
引用数:
0
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0
高瀬均
.
中国专利
:CN110993476A
,2020-04-10
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
松山昇一郎
论文数:
0
引用数:
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松山昇一郎
;
佐藤大树
论文数:
0
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佐藤大树
;
佐佐木康晴
论文数:
0
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0
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佐佐木康晴
;
西岛贵史
论文数:
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西岛贵史
;
朴镇永
论文数:
0
引用数:
0
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0
朴镇永
.
中国专利
:CN109509694B
,2019-03-22
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