等离子体处理装置和温度测量方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202380061306.5
申请日
2023-08-16
公开(公告)号
CN119744437A
公开(公告)日
2025-04-01
发明(设计)人
山田和人 田面木真也
申请人
东京毅力科创株式会社
申请人地址
日本
IPC主分类号
H01L21/3065
IPC分类号
G05D23/00 H01L21/205 H01L21/31 H01L21/683
代理机构
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
龙淳;池兵
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
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涂乐义 ;
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[2]
F密度测量方法、等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
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中国专利 :CN1828274A ,2006-09-06
[3]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
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高桥雅典 ;
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
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[8]
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[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
内田阳平 ;
佐藤徹治 ;
矢幡将二郎 ;
高瀬均 .
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[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
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