ケイ素リッチ窒化ケイ素膜を調製するための方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240552404

申请日：

2023-03-03

公开(公告)号：

JP2025508534A

公开(公告)日：

2025-03-26

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/318

IPC分类号：

C23C16/42 C23C16/455

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共 50 条

[1]

ケイ素及び窒素を含有する膜を製造する方法[ja] [P].

HAIRPIN CHANDRA ;

LEI XINJIAN ;

KIM MOO-SUNG .

日本专利 :JP2022008961A ,2022-01-14

[2]

多層窒化ケイ素膜[ja] [P].

日本专利 :JP2024546043A ,2024-12-17

[3]

金属窒化ケイ素膜を形成するためのＮＨラジカル熱窒化[ja] [P].

日本专利 :JP2024543156A ,2024-11-19

[4]

四塩化ケイ素を水素化する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020500806A ,2020-01-16

[5]

ケイ素含有膜を形成するためのケイ素前駆体化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP7683037B2 ,2025-05-26

[6]

ケイ素含有膜を形成するためのケイ素前駆体化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024518754A ,2024-05-02

[7]

ケイ素前駆体化合物及びケイ素含有膜を形成するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023531513A ,2023-07-24

[8]

ケイ素前駆体化合物、ケイ素前駆体化合物を含むケイ素含有膜を形成するための組成物、及びケイ素含有膜を形成するための組成物を使用して膜を形成するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024527743A ,2024-07-26

[9]

非対称構造のケイ素前駆体化合物、それを調製するための方法、及びケイ素含有薄膜を調製するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025533587A ,2025-10-07

[10]

ケイ素化合物、及びそのケイ素化合物を使用する膜を堆積するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP7568714B2 ,2024-10-16

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