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电化学抛光挂持装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202420626237.X
申请日
:
2024-03-28
公开(公告)号
:
CN222758367U
公开(公告)日
:
2025-04-15
发明(设计)人
:
赵清华
罗富良
申请人
:
北京爱霖医疗科技有限公司
申请人地址
:
100094 北京市海淀区北清路103号2幢一层101-1154
IPC主分类号
:
C25F3/16
IPC分类号
:
代理机构
:
北京聿宏知识产权代理有限公司 11372
代理人
:
吴大建;张高洁
法律状态
:
授权
国省代码
:
北京市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-15
授权
授权
共 50 条
[1]
电化学抛光装置
[P].
庄维伟
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庄维伟
;
高永超
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高永超
;
程好
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程好
;
杨淑平
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杨淑平
;
蔡渊
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蔡渊
;
贺昱旻
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贺昱旻
.
中国专利
:CN203174217U
,2013-09-04
[2]
电化学抛光装置
[P].
向城
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向城
;
刁宇新
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刁宇新
;
叶知春
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叶知春
.
中国专利
:CN217839194U
,2022-11-18
[3]
电化学抛光装置
[P].
于丽
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于丽
.
中国专利
:CN216738622U
,2022-06-14
[4]
支架电化学抛光装置
[P].
蔡蒙
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机构:
湃生科技(常州)有限公司
湃生科技(常州)有限公司
蔡蒙
;
梅森
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机构:
湃生科技(常州)有限公司
湃生科技(常州)有限公司
梅森
;
沈丹鸿
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机构:
湃生科技(常州)有限公司
湃生科技(常州)有限公司
沈丹鸿
.
中国专利
:CN223226221U
,2025-08-15
[5]
一种电化学抛光方法与电化学抛光装置
[P].
邓辉
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邓辉
.
中国专利
:CN107488872B
,2017-12-19
[6]
新型电化学抛光装置
[P].
贾照伟
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贾照伟
;
王坚
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王坚
;
王晖
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王晖
.
中国专利
:CN104894634A
,2015-09-09
[7]
电化学抛光设备
[P].
杨宏超
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杨宏超
;
金一诺
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金一诺
;
张怀东
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张怀东
;
王坚
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王坚
;
王晖
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王晖
.
中国专利
:CN105316755A
,2016-02-10
[8]
一种阴极结构、电化学抛光槽及电化学抛光设备
[P].
黄峰
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黄峰
;
王湘鸣
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王湘鸣
;
尹亚丽
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尹亚丽
;
赵婧
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赵婧
;
陈国明
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陈国明
;
李雨
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李雨
.
中国专利
:CN210287576U
,2020-04-10
[9]
一种电化学抛光装置
[P].
邓辉
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邓辉
.
中国专利
:CN207276776U
,2018-04-27
[10]
超导高频腔电化学抛光装置
[P].
宗玥
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机构:
中国科学院上海高等研究院
中国科学院上海高等研究院
宗玥
;
武佳妮
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机构:
中国科学院上海高等研究院
中国科学院上海高等研究院
武佳妮
;
论文数:
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机构:
陈锦芳
.
中国专利
:CN221460577U
,2024-08-02
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