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マスク、マスク装置及びマスク装置の製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20240085114
申请日：
2024-05-24
公开(公告)号：
JP7656270B1
公开(公告)日：
2025-04-03
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C23C14/04
IPC分类号：
C23C14/24
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
マスク、マスク装置及びマスク装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025177943A ,2025-12-05
[2]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
AKAGI DAIJIRO ;
OKATO TAKESHI ;
SASAKI KENICHI ;
ISHIKAWA ICHIRO ;
SUZUKI NORIYUKI .
日本专利 :JP2024135147A ,2024-10-04
[3]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
TAKI SHUNYA ;
IWAOKA KEIMEI ;
AKAGI DAIJIRO ;
ISHIKAWA ICHIRO .
日本专利 :JP2024107472A ,2024-08-08
[4]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025171653A ,2025-11-20
[5]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7315123B1 ,2023-07-26
[6]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
AKAGI DAIJIRO ;
OKATO TAKESHI ;
SASAKI KENICHI ;
ISHIKAWA ICHIRO ;
SUZUKI NORIYUKI .
日本专利 :JP2024135499A ,2024-10-04
[7]
マスク装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025178123A ,2025-12-05
[8]
反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010074125A1 ,2012-06-21
[9]
マスク、呼吸負荷型マスクおよびマスクケース[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018003831A1 ,2019-04-18
[10]
フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P]. 
INAZUKI SADAOMI ;
SASAMOTO KOHEI ;
MATSUHASHI NAOKI .
日本专利 :JP2022093557A ,2022-06-23
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