導体パターン有する積層体の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230141439

申请日：

2023-08-31

公开(公告)号：

JP2025034808A

公开(公告)日：

2025-03-13

发明(设计)人：

ONIZUKA YU

申请人：

FUJIFILM CORP

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/028 G03F7/11 G03F7/20

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

積層体、表示装置、照明装置、太陽電池、及び積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6079637B2 ,2017-02-15

[2]

光学積層体、照明装置、液晶表示装置、及び光学積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011074399A1 ,2013-04-25

[3]

半導体装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015162786A1 ,2017-04-13

[4]

半導体製造装置および半導体装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025140804A ,2025-09-29

[5]

方形散乱機能を有する微小構造体を有する光学構造体[ja] [P].

日本专利 :JP2016534520A ,2016-11-04

[6]

半導体製造装置、検査装置および半導体装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025148155A ,2025-10-07

[7]

半導体製造装置、エッジの検出方法および半導体装置の製造方法[ja] [P].

KOBASHI HIDEHARU .

日本专利 :JP2024120328A ,2024-09-05

[8]

均一性の高い照明パターンを有するＬＥＤ照明装置[ja] [P].

日本专利 :JP5881946B2 ,2016-03-09

[9]

光パターンを生成する照明装置[ja] [P].

日本专利 :JP5681718B2 ,2015-03-11

[10]

賦形フィルム、積層体、導光層付き積層体、及び照明装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025153272A ,2025-10-10

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