衬底处理装置和使用该衬底处理装置的衬底处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410450941.9

申请日：

2024-04-15

公开(公告)号：

CN119725145A

公开(公告)日：

2025-03-28

发明(设计)人：

金铉培李柱昊姜泂模金京善金南均罗栋铉南象基李现宰郑贤学

申请人：

三星电子株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/687 H01J37/32 C23C16/517 C23C16/02 C23C16/52

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴晓兵;倪斌

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-28	公开	公开

共 50 条

[1]

衬底处理装置和使用该衬底处理装置的衬底处理方法 [P].

高亨植 .

韩国专利 :CN117711900A ,2024-03-15

[2]

衬底处理管、衬底处理装置和衬底处理方法 [P].

李贤珠 ;

金炳勋 ;

金玹彻 ;

李在珩 ;

孔炳焕 .

韩国专利 :CN117364058A ,2024-01-09

[3]

衬底处理装置和使用该衬底处理装置处理衬底的方法 [P].

朴相真 ;

朴智焕 ;

李根泽 .

韩国专利 :CN118073226A ,2024-05-24

[4]

衬底处理装置和衬底处理方法 [P].

卢炫佑 ;

金劲佑 ;

郑暎锡 ;

洪永珍 ;

吴守赞 ;

申盛宇 ;

李南勋 ;

李奉柱 .

韩国专利 :CN118016555A ,2024-05-10

[5]

衬底处理方法和衬底处理装置 [P].

金龙优 ;

李东炫 ;

姜东勳 ;

奇釜杆 ;

边湖连 ;

李廷仁 ;

崔圣植 ;

崔正燮 .

韩国专利 :CN120344117A ,2025-07-18

[6]

衬底处理装置和衬底处理方法 [P].

朴相真 ;

朴智焕 ;

李根泽 .

韩国专利 :CN118553640A ,2024-08-27

[7]

衬底处理装置和衬底处理方法 [P].

樱井秀昭 ;

伊藤正光 ;

伊藤信一 .

中国专利 :CN1199242C ,2002-08-28

[8]

衬底处理装置和衬底处理方法 [P].

朴相真 ;

朴智焕 ;

李根泽 .

韩国专利 :CN118099023A ,2024-05-28

[9]

衬底处理装置和衬底处理方法 [P].

李一成 ;

汪宇澄 ;

陈亮 ;

陶成钢 .

中国专利 :CN102842637A ,2012-12-26

[10]

衬底处理方法和衬底处理装置 [P].

中务胜吉 ;

小笠原和久 ;

堺原义晶 ;

春木佳弘 ;

川手宗则 .

中国专利 :CN100490083C ,2006-06-14

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