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流水式晶圆清洗机
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410993810.5
申请日：
2024-07-23
公开(公告)号：
CN118943051B
公开(公告)日：
2025-04-01
发明(设计)人：
谢柏弘
何若飞
赖建华
陈伯诚
申请人：
深圳市和科达半导体设备有限公司
申请人地址：
518000 广东省深圳市宝安区松岗街道朗下社区茅洲工业区C3栋201
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
B08B3/02
B08B5/02
代理机构：
深圳市添源创鑫知识产权代理有限公司 44855
代理人：
周椿
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-11-29 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20240723 |
| 2024-11-12 | 公开 | 公开 |
| 2025-04-01 | 授权 | 授权 |
| 2025-02-11 | 著录事项变更 | 著录事项变更IPC(主分类):H01L 21/67变更事项:申请人变更前:深圳远荣半导体设备有限公司变更后:深圳市和科达半导体设备有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:518000 广东省深圳市宝安区松岗街道朗下社区茅洲工业区C3栋变更后:518000 广东省深圳市宝安区松岗街道朗下社区茅洲工业区C3栋201 |