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光学元件、光学系统装置和光学系统装置的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380064352.0
申请日：
2023-08-04
公开(公告)号：
CN119836588A
公开(公告)日：
2025-04-15
发明(设计)人：
中村智宣
杨哲
绳田晃史
小川大贵
粟屋信义
田中觉
申请人：
SCIVAX株式会社
申请人地址：
日本神奈川县
IPC主分类号：
G02B3/00
IPC分类号：
G02B5/02
代理机构：
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人：
梁海莲;李磊
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-08-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G02B 3/00申请日:20230804 |
| 2025-04-15 | 公开 | 公开 |