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基于深度学习的芯片版图双步光刻热点检测方法及系统

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410793790.7
申请日：
2024-06-19
公开(公告)号：
CN118748187B
公开(公告)日：
2025-04-11
发明(设计)人：
刘康 姜聪 孙昊洋 冯丹
申请人：
华中科技大学
申请人地址：
430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
IPC主分类号：
H10D89/10
IPC分类号：
H01L21/66
代理机构：
武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267
代理人：
李君
法律状态：
授权
国省代码：
湖北省 武汉市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-04-11 授权 授权
2024-10-25 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 27/02申请日:20240619
2024-10-08 公开 公开
共 50 条
[1]
基于深度学习的芯片版图双步光刻热点检测方法及系统 [P]. 
刘康 ;
姜聪 ;
孙昊洋 ;
冯丹 .
中国专利 :CN118748187A ,2024-10-08
[2]
一种基于异步元学习的芯片版图光刻热点检测方法及系统 [P]. 
刘康 ;
姜聪 ;
王玉佳 ;
冯丹 .
中国专利 :CN120876380A ,2025-10-31
[3]
一种基于深度学习LHD模型的光刻热点检测方法及系统 [P]. 
江小龙 ;
任堃 ;
高大为 .
中国专利 :CN117314828B ,2025-05-02
[4]
结合物理模型的深度学习光刻热点检测方法及系统 [P]. 
朱胜兰 ;
程平 .
中国专利 :CN120993691A ,2025-11-21
[5]
一种基于深度学习的光刻热点检测方法及装置 [P]. 
王科 ;
任堃 ;
高大为 .
中国专利 :CN119941734B ,2025-07-29
[6]
一种基于深度学习的光刻热点检测方法及装置 [P]. 
王科 ;
任堃 ;
高大为 .
中国专利 :CN119941734A ,2025-05-06
[7]
基于多方向特征增强网络的版图光刻热点检测方法及系统 [P]. 
朱明 ;
陈佩飞 ;
从今 ;
李志刚 ;
彭春雨 ;
吴秀龙 ;
吴波 ;
杨华光 .
中国专利 :CN120471922B ,2025-09-16
[8]
基于多方向特征增强网络的版图光刻热点检测方法及系统 [P]. 
朱明 ;
陈佩飞 ;
从今 ;
李志刚 ;
彭春雨 ;
吴秀龙 ;
吴波 ;
杨华光 .
中国专利 :CN120471922A ,2025-08-12
[9]
一种芯片版图图案拓扑表示及热点检测方法 [P]. 
邹宁睦 ;
陈思霖 ;
邸康健 ;
许文博 ;
王柏涵 ;
张昊天 ;
陈文军 .
中国专利 :CN119337794A ,2025-01-21
[10]
一种芯片版图图案拓扑表示及热点检测方法 [P]. 
邹宁睦 ;
陈思霖 ;
邸康健 ;
许文博 ;
王柏涵 ;
张昊天 ;
陈文军 .
中国专利 :CN119337794B ,2025-03-14
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