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一种基于深度学习的光刻热点检测方法及装置

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510430486.0
申请日：
2025-04-08
公开(公告)号：
CN119941734B
公开(公告)日：
2025-07-29
发明(设计)人：
王科 任堃 高大为
申请人：
浙江大学 浙江创芯集成电路有限公司
申请人地址：
310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
IPC主分类号：
G06T7/00
IPC分类号：
G06N3/0475 G06N3/045 G06N3/094
代理机构：
杭州求是专利事务所有限公司 33200
代理人：
刘静
法律状态：
公开
国省代码：
安徽省 宣城市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-05-06 公开 公开
2025-07-29 授权 授权
2025-05-23 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G06T 7/00申请日:20250408
共 50 条
[1]
一种基于深度学习的光刻热点检测方法及装置 [P]. 
王科 ;
任堃 ;
高大为 .
中国专利 :CN119941734A ,2025-05-06
[2]
一种基于深度学习LHD模型的光刻热点检测方法及系统 [P]. 
江小龙 ;
任堃 ;
高大为 .
中国专利 :CN117314828B ,2025-05-02
[3]
结合物理模型的深度学习光刻热点检测方法及系统 [P]. 
朱胜兰 ;
程平 .
中国专利 :CN120993691A ,2025-11-21
[4]
基于深度学习的芯片版图双步光刻热点检测方法及系统 [P]. 
刘康 ;
姜聪 ;
孙昊洋 ;
冯丹 .
中国专利 :CN118748187A ,2024-10-08
[5]
基于深度学习的芯片版图双步光刻热点检测方法及系统 [P]. 
刘康 ;
姜聪 ;
孙昊洋 ;
冯丹 .
中国专利 :CN118748187B ,2025-04-11
[6]
基于深度学习的手部关键点检测方法 [P]. 
强保华 ;
张世豪 ;
赵天 ;
陶林 ;
谢武 .
中国专利 :CN110222558A ,2019-09-10
[7]
一种基于深度学习的鞋样及足迹关键点检测方法 [P]. 
孙晰锐 ;
于昕晔 ;
李岱熹 ;
崔均健 ;
赵晓蕊 .
中国专利 :CN109101983A ,2018-12-28
[8]
一种基于深度学习的光刻缺陷检测方法及装置 [P]. 
谷洪刚 ;
梁昊阳 ;
刘世元 ;
刘力 .
中国专利 :CN119579534B ,2025-07-29
[9]
一种基于深度学习的光刻缺陷检测方法及装置 [P]. 
谷洪刚 ;
梁昊阳 ;
刘世元 ;
刘力 .
中国专利 :CN119579534A ,2025-03-07
[10]
一种基于深度学习的关键点检测方法 [P]. 
单劲松 ;
张浩楠 ;
谭义镇 ;
杨培 ;
易华飞 ;
陈荣华 ;
李兴丽 ;
孙成富 ;
金春花 ;
陈晓兵 .
中国专利 :CN120088510A ,2025-06-03
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