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基板の処理方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240188438
申请日
:
2024-10-25
公开(公告)号
:
JP7656139B1
公开(公告)日
:
2025-04-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/42
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板の処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7773670B1
,2025-11-19
[2]
基板の処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7784507B1
,2025-12-11
[3]
基板処理方法[ja]
[P].
KWON BONG-SOO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TES CO LTD
TES CO LTD
KWON BONG-SOO
;
KIM DO-HYUN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TES CO LTD
TES CO LTD
KIM DO-HYUN
;
PARK YU-RI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TES CO LTD
TES CO LTD
PARK YU-RI
;
KIM SE-CHAN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TES CO LTD
TES CO LTD
KIM SE-CHAN
.
日本专利
:JP2024035837A
,2024-03-14
[4]
基板処理方法及び基板処理装置[ja]
[P].
FUJII HIROYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
FUJII HIROYUKI
;
OKADA SOICHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
OKADA SOICHIRO
;
IDO YASUYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
IDO YASUYUKI
;
MURAMATSU MAKOTO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
MURAMATSU MAKOTO
;
YOSHIDA KEISUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YOSHIDA KEISUKE
;
INOUE NANOKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
INOUE NANOKA
.
日本专利
:JP2025023029A
,2025-02-14
[5]
基板処理装置及び基板処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017057727A1
,2018-07-19
[6]
基板処理装置、及び基板処理方法[ja]
[P].
NAGAI TAKASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
NAGAI TAKASHI
;
MORITA HISASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
MORITA HISASHI
.
日本专利
:JP2025098499A
,2025-07-02
[7]
基板処理方法及び基板処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025136048A
,2025-09-19
[8]
基板処理方法及び基板処理装置[ja]
[P].
YAMADA KAZUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YAMADA KAZUKI
;
YONEZAWA TAKAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YONEZAWA TAKAHIRO
;
SUZUKI JUNYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
SUZUKI JUNYA
;
WATANABE MASAHISA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
WATANABE MASAHISA
;
MURAMATSU MAKOTO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
MURAMATSU MAKOTO
;
ISHII KATSUTOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
ISHII KATSUTOSHI
.
日本专利
:JP2025069993A
,2025-05-02
[9]
基板処理装置、及び基板処理方法[ja]
[P].
MARUMOTO HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
MARUMOTO HIROSHI
;
SAKAGUCHI KEISUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
SAKAGUCHI KEISUKE
;
YANO HIDETSUGU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YANO HIDETSUGU
.
日本专利
:JP2024157086A
,2024-11-07
[10]
基板処理方法及び基板処理装置[ja]
[P].
YAMADA KAZUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YAMADA KAZUKI
;
ISHII KATSUTOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
ISHII KATSUTOSHI
;
YONEZAWA TAKAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YONEZAWA TAKAHIRO
;
MURAMATSU MAKOTO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
MURAMATSU MAKOTO
.
日本专利
:JP2025034615A
,2025-03-13
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