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基片处理系统和基片异常检测方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380065158.4
申请日
:
2023-09-26
公开(公告)号
:
CN119866540A
公开(公告)日
:
2025-04-22
发明(设计)人
:
永井龙
石川慎也
佐藤健太
田中康基
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
H01L21/66
IPC分类号
:
G01N21/956
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;何中文
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-22
公开
公开
2025-05-09
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/66申请日:20230926
共 50 条
[1]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
熊仓翔
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
熊仓翔
;
小野健太
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小野健太
;
中根由太
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
中根由太
;
西冢哲也
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0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
西冢哲也
;
本田昌伸
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
本田昌伸
.
日本专利
:CN119923708A
,2025-05-02
[2]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
久松亨
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
久松亨
;
胜沼隆幸
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
胜沼隆幸
;
石川慎也
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
石川慎也
;
木原嘉英
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
木原嘉英
;
本田昌伸
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
本田昌伸
.
日本专利
:CN113169066B
,2024-05-31
[3]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
榎本正志
论文数:
0
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0
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0
榎本正志
;
中村泰之
论文数:
0
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0
中村泰之
;
鹤田丰久
论文数:
0
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0
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0
鹤田丰久
.
中国专利
:CN113075867A
,2021-07-06
[4]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
冈田聪一郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈田聪一郎
.
日本专利
:CN117501416A
,2024-02-02
[5]
基片处理系统和基片处理方法
[P].
赫尔曼·施勒姆
论文数:
0
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0
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0
赫尔曼·施勒姆
;
马蒂亚斯·尤尔格
论文数:
0
引用数:
0
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0
马蒂亚斯·尤尔格
.
中国专利
:CN102007565A
,2011-04-06
[6]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
熊仓翔
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
熊仓翔
;
小野健太
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小野健太
;
中根由太
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
中根由太
;
西冢哲也
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
西冢哲也
;
本田昌伸
论文数:
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
本田昌伸
.
日本专利
:CN119816921A
,2025-04-11
[7]
基片处理系统和基片处理方法
[P].
齐藤幸良
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
齐藤幸良
;
中原田雅弘
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
中原田雅弘
.
日本专利
:CN120184070A
,2025-06-20
[8]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
熊仓翔
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
熊仓翔
;
小野健太
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小野健太
;
中根由太
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
中根由太
;
西冢哲也
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
西冢哲也
;
本田昌伸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
本田昌伸
.
日本专利
:CN119816920A
,2025-04-11
[9]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
斋藤祐介
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
斋藤祐介
;
村松诚
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
村松诚
;
藤井宽之
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
藤井宽之
.
日本专利
:CN115066742B
,2025-09-30
[10]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
斋藤祐介
论文数:
0
引用数:
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斋藤祐介
;
村松诚
论文数:
0
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村松诚
;
藤井宽之
论文数:
0
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藤井宽之
.
中国专利
:CN115066742A
,2022-09-16
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