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一种低毒性氧化亚铜系半导体涂层材料及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411779795.0
申请日
:
2024-12-05
公开(公告)号
:
CN119822809A
公开(公告)日
:
2025-04-15
发明(设计)人
:
乌凯
陈钢锋
万思明
党腾华
申请人
:
陕西航空电气有限责任公司
申请人地址
:
713107 陕西省咸阳市兴平市西城区45号信箱
IPC主分类号
:
C04B35/45
IPC分类号
:
C04B35/622
C04B41/88
代理机构
:
中国航空专利中心 11008
代理人
:
张昕
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-05-02
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C04B 35/45申请日:20241205
2025-04-15
公开
公开
共 50 条
[1]
一种氧化亚铜半导体陶瓷材料及其制备方法
[P].
乌凯
论文数:
0
引用数:
0
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乌凯
;
万思明
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万思明
.
中国专利
:CN107857583B
,2018-03-30
[2]
氧化亚铜半导体薄膜材料的制备方法
[P].
张志敏
论文数:
0
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0
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0
张志敏
.
中国专利
:CN106119923A
,2016-11-16
[3]
氧化亚铜半导体薄膜材料的制备方法
[P].
樊慧庆
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樊慧庆
;
李强
论文数:
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李强
;
翟玉纯
论文数:
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翟玉纯
.
中国专利
:CN102732928A
,2012-10-17
[4]
一种负载型氧化亚铜纳米材料及其制备方法
[P].
张宗超
论文数:
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张宗超
;
聂学忠
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聂学忠
;
贾秀全
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贾秀全
;
陈徐锞
论文数:
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陈徐锞
.
中国专利
:CN115608358A
,2023-01-17
[5]
一种氧化亚铜纳米材料制备方法
[P].
邓大松
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邓大松
;
胡文全
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胡文全
.
中国专利
:CN112919526A
,2021-06-08
[6]
一种纳米氧化亚铜基染料吸附材料及其制备方法
[P].
孙红艳
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孙红艳
;
张跃忠
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张跃忠
;
王晓宇
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王晓宇
.
中国专利
:CN108435149A
,2018-08-24
[7]
一种钯‑氧化亚铜网状纳米催化材料及其制备和应用
[P].
杨海峰
论文数:
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杨海峰
;
吉媛媛
论文数:
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0
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吉媛媛
.
中国专利
:CN106299391A
,2017-01-04
[8]
纳米氧化亚铜基3D打印用半导体材料及其制备方法
[P].
蓝碧健
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0
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蓝碧健
.
中国专利
:CN104194266A
,2014-12-10
[9]
一种钌/氧化亚铜电催化材料及其制备方法
[P].
曹达鹏
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曹达鹏
;
高静
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高静
;
王迪
论文数:
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0
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王迪
.
中国专利
:CN109811364B
,2019-05-28
[10]
一种空心氧化亚铜纳米材料及其制备方法
[P].
冯莉莉
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冯莉莉
;
崔大祥
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崔大祥
.
中国专利
:CN102515244B
,2012-06-27
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