半導体装置、半導体装置の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20230150492
申请日
2023-09-15
公开(公告)号
JP2025043152A
公开(公告)日
2025-03-28
发明(设计)人
SUZUKI KEI FUJINO SHINICHI KUBOKI TAKASHI
申请人
HITACHI ASTEMO LTD
申请人地址
IPC主分类号
H01L25/07
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025179592A ,2025-12-10
[2]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015141384A1 ,2017-04-06
[3]
半導体製造方法及び半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006111804A1 ,2008-11-20
[4]
半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
KITAICHI YUKIHIRO ;
SUGIURA MASATOSHI ;
TAMIMOTO HIDEAKI ;
MAEDA TAKEHIKO ;
TAKADA KEITA ;
KYOGOKU YOSHITAKA .
日本专利 :JP2023172171A ,2023-12-06
[5]
半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019082344A1 ,2020-04-16
[6]
半導体装置および半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020136805A1 ,2021-10-07
[7]
半導体部品の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022150414A ,2022-10-07
[8]
半導体部品の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022144070A ,2022-10-03