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半導体装置、半導体装置の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230150492
申请日
:
2023-09-15
公开(公告)号
:
JP2025043152A
公开(公告)日
:
2025-03-28
发明(设计)人
:
SUZUKI KEI
FUJINO SHINICHI
KUBOKI TAKASHI
申请人
:
HITACHI ASTEMO LTD
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L25/07
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025179592A
,2025-12-10
[2]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015141384A1
,2017-04-06
[3]
半導体製造方法及び半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006111804A1
,2008-11-20
[4]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
KITAICHI YUKIHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
KITAICHI YUKIHIRO
;
SUGIURA MASATOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
SUGIURA MASATOSHI
;
TAMIMOTO HIDEAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
TAMIMOTO HIDEAKI
;
MAEDA TAKEHIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
MAEDA TAKEHIKO
;
TAKADA KEITA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
TAKADA KEITA
;
KYOGOKU YOSHITAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
KYOGOKU YOSHITAKA
.
日本专利
:JP2023172171A
,2023-12-06
[5]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019082344A1
,2020-04-16
[6]
半導体装置および半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020136805A1
,2021-10-07
[7]
半導体部品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022150414A
,2022-10-07
[8]
半導体部品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022144070A
,2022-10-03
[9]
半導体装置、半導体装置の製造方法および電力変換装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020174584A1
,2021-03-11
[10]
半導体装置、半導体装置の製造方法および電力変換装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6575739B1
,2019-09-18
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