基板处理系统以及状态监视方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411824132.6

申请日：

2021-08-25

公开(公告)号：

CN119833436A

公开(公告)日：

2025-04-15

发明(设计)人：

兒玉俊昭

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/677 H01J37/32

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李靖

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-02	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20210825
2025-04-15	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理系统以及状态监视方法 [P].

兒玉俊昭 .

日本专利 :CN114203578B ,2025-01-14

[2]

基板处理系统以及状态监视方法 [P].

兒玉俊昭 .

中国专利 :CN114203578A ,2022-03-18

[3]

处理系统、监视方法以及监视系统 [P].

长崎高巳 ;

巢山崇 ;

仮屋崎洋和 .

中国专利 :CN105847740A ,2016-08-10

[4]

基板处理装置、基板处理方法、以及基板处理系统 [P].

越田隆 .

中国专利 :CN105431923A ,2016-03-23

[5]

基板处理装置、基板处理方法以及基板处理系统 [P].

高木克明 ;

佐野诚一郎 ;

内田雄三 ;

山中智史 .

中国专利 :CN105474356A ,2016-04-06

[6]

基板处理系统、基板处理系统的控制装置以及基板处理系统的运转方法 [P].

出口和摩 ;

绿川周吾 ;

长泽畅亮 ;

佐藤天星 ;

若林秀树 .

中国专利 :CN114068350A ,2022-02-18

[7]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

中国专利 :CN110137107A ,2019-08-16

[8]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

栗原弘邦 ;

水鸟量介 ;

后和昭典 ;

高木智哉 ;

本间真 .

中国专利 :CN105914165B ,2016-08-31

[9]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

林圣人 ;

野口耕平 ;

东广大 ;

绪方诚 .

日本专利 :CN111477564B ,2025-07-15

[10]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

日本专利 :CN110137107B ,2024-04-02

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