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一种离子源装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202420819572.1
申请日
:
2024-04-18
公开(公告)号
:
CN222705443U
公开(公告)日
:
2025-04-01
发明(设计)人
:
朱星高
洪俊安
彭真
周诗寒
邓伟
刘伟
孔国标
申请人
:
广州市达安医疗器械有限公司
申请人地址
:
510000 广东省广州市高新技术产业开发区荔枝山路6号2号楼201房
IPC主分类号
:
H01J49/16
IPC分类号
:
B08B5/04
代理机构
:
深圳市世联合知识产权代理有限公司 44385
代理人
:
田帅
法律状态
:
授权
国省代码
:
河北省 保定市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-01
授权
授权
共 50 条
[1]
一种离子源
[P].
吴宝昕
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0
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0
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0
吴宝昕
.
中国专利
:CN110729170A
,2020-01-24
[2]
一种离子源
[P].
B·D·昆比
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B·D·昆比
;
A·A·阿德里亚诺
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A·A·阿德里亚诺
.
中国专利
:CN115335961A
,2022-11-11
[3]
一种离子源
[P].
吴宝昕
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吴宝昕
.
中国专利
:CN110808205A
,2020-02-18
[4]
离子源、质谱仪、离子源控制方法
[P].
长谷川英树
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长谷川英树
;
杉山益之
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杉山益之
;
桥本雄一郎
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桥本雄一郎
.
中国专利
:CN115104173A
,2022-09-23
[5]
离子源、质谱仪、离子源控制方法
[P].
长谷川英树
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
长谷川英树
;
杉山益之
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
杉山益之
;
桥本雄一郎
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
桥本雄一郎
.
日本专利
:CN115104173B
,2025-05-16
[6]
离子源腔体、离子源和质谱仪
[P].
黄晓圳
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黄晓圳
;
施继坚
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施继坚
;
黄飞鸿
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黄飞鸿
;
江高雄
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江高雄
;
吴思瑶
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吴思瑶
.
中国专利
:CN217214635U
,2022-08-16
[7]
一种离子源引出装置
[P].
何坚
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何坚
.
中国专利
:CN201655740U
,2010-11-24
[8]
离子源清洁装置
[P].
韩乐乐
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韩乐乐
;
吴云昭
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吴云昭
;
尚元贺
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尚元贺
;
张亚芳
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张亚芳
;
李向广
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李向广
;
蔡克亚
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蔡克亚
;
张瑞峰
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张瑞峰
.
中国专利
:CN213792968U
,2021-07-27
[9]
复合离子源装置
[P].
于佳佳
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于佳佳
;
穆辉
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穆辉
;
薛兵
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薛兵
;
胡波
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胡波
;
周旭
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周旭
;
唐朝阳
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唐朝阳
;
周飞宇
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周飞宇
;
孙露露
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孙露露
.
中国专利
:CN217933710U
,2022-11-29
[10]
一种复合离子源
[P].
何坚
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何坚
.
中国专利
:CN102299038B
,2011-12-28
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