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薄膜製造方法及び薄膜製造装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20250014131
申请日
:
2025-01-30
公开(公告)号
:
JP2025061984A
公开(公告)日
:
2025-04-11
发明(设计)人
:
SON TAEHO
KIM SOJUNG
BYUN HYERAN
YEON CHANGBONG
JUNG JAESUN
LEE SEOKJONG
申请人
:
SOULBRAIN CO LTD
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C16/34
IPC分类号
:
C23C16/02
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
光学薄膜及び光学薄膜の製造方法[ja]
[P].
SHICHIDA YUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSOH CORP
TOSOH CORP
SHICHIDA YUKI
;
SAKASHITA RYUICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSOH CORP
TOSOH CORP
SAKASHITA RYUICHI
;
ICHIJO HIROKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSOH CORP
TOSOH CORP
ICHIJO HIROKI
;
MURAKAMI NORITAKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSOH CORP
TOSOH CORP
MURAKAMI NORITAKE
;
INABA AYATO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSOH CORP
TOSOH CORP
INABA AYATO
.
日本专利
:JP2025045042A
,2025-04-02
[2]
油脂製造方法及び油脂製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6712659B1
,2020-06-24
[3]
樹脂の製造方法、樹脂、薄膜及び複合薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP2025170833A
,2025-11-20
[4]
分散体の製造方法及び製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016031695A1
,2017-07-06
[5]
薄膜形成用プリカーサ、その製造方法、及びそれを含む薄膜製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023530354A
,2023-07-14
[6]
微粒子の製造方法及び製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005066069A1
,2007-07-26
[7]
メモリ素子の製造装置及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012070551A1
,2014-05-19
[8]
炭化水素製造装置及び炭化水素製造方法[ja]
[P].
NISHIOKA KAITO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HONDA MOTOR CO LTD
HONDA MOTOR CO LTD
NISHIOKA KAITO
;
SUMI HIDEAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HONDA MOTOR CO LTD
HONDA MOTOR CO LTD
SUMI HIDEAKI
.
日本专利
:JP2024172009A
,2024-12-12
[9]
還元鉄の製造方法及び製造設備[ja]
[P].
日本专利
:JP5825459B1
,2015-12-02
[10]
還元鉄の製造方法及び製造設備[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015137348A1
,2017-04-06
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