反射型掩模坯料及反射型掩模的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411465764.8

申请日：

2024-10-21

公开(公告)号：

CN119902409A

公开(公告)日：

2025-04-29

发明(设计)人：

高坂卓郎稻月判臣生越大河

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本国东京都千代田区丸之内一丁目4番1号

IPC主分类号：

G03F1/24

IPC分类号：

G03F1/54 G03F1/48

代理机构：

上海德昭知识产权代理有限公司 31204

代理人：

郁旦蓉;卢泓宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-29	公开	公开

共 50 条

[1]

反射型掩模坯料和反射型掩模的制造方法 [P].

稻月判臣 ;

高坂卓郎 ;

生越大河 ;

樱井敬佑 ;

三村祥平 ;

金子英雄 .

日本专利 :CN119493328A ,2025-02-21

[2]

反射型光掩模坯料及反射型光掩模的制造方法 [P].

樱井敬佑 .

日本专利 :CN118348737A ,2024-07-16

[3]

反射型掩模坯料及反射型掩模的制造方法 [P].

生越大河 ;

稻月判臣 ;

金子英雄 ;

高坂卓郎 .

日本专利 :CN119916636A ,2025-05-02

[4]

反射型掩模坯料及反射型掩模的制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

生越大河 .

日本专利 :CN117631434A ,2024-03-01

[5]

反射型掩模坯料、反射型掩模及反射型掩模坯料的制造方法 [P].

生越大河 ;

金子英雄 ;

稻月判臣 ;

高坂卓郎 .

日本专利 :CN121115389A ,2025-12-12

[6]

反射型掩模坯料和反射型掩模的制造方法 [P].

稻月判臣 ;

高坂卓郎 ;

生越大河 ;

樱井敬佑 ;

三村祥平 ;

金子英雄 .

日本专利 :CN119493327A ,2025-02-21

[7]

反射型掩模坯料和反射型掩模的制造方法 [P].

樱井敬佑 ;

三村祥平 ;

石井丈士 ;

金子英雄 .

日本专利 :CN119689774A ,2025-03-25

[8]

反射型掩模坯料的制造方法及反射型掩模坯料 [P].

稻月判臣 ;

高坂卓郎 ;

寺泽恒男 .

中国专利 :CN113341644A ,2021-09-03

[9]

反射型掩模坯料、其制造方法和反射型掩模 [P].

高坂卓郎 ;

三村祥平 ;

山本拓郎 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN113515006A ,2021-10-19

[10]

反射型掩模坯料和制造反射型掩模的方法 [P].

高坂卓郎 ;

生越大河 ;

稻月判臣 ;

金子英雄 .

中国专利 :CN115494692A ,2022-12-20

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