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抗蚀剂底层组合物和使用该组合物形成图案的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411482622.2
申请日
:
2024-10-23
公开(公告)号
:
CN119882348A
公开(公告)日
:
2025-04-25
发明(设计)人
:
李恩受
白载烈
黄丙奎
阵和英
金秀贞
金圣振
曹雅罗
崔有廷
郑盛宇
林昌模
权纯亨
申请人
:
三星SDI株式会社
申请人地址
:
韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
IPC主分类号
:
G03F7/004
IPC分类号
:
G03F7/09
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
马雯雯;臧建明
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-25
公开
公开
2025-05-13
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20241023
共 50 条
[1]
抗蚀剂底层组合物和使用组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
崔有廷
;
金圣振
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金圣振
;
白载烈
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
白载烈
;
阵和英
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
阵和英
;
权纯亨
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
权纯亨
.
韩国专利
:CN117590687A
,2024-02-23
[2]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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崔有廷
;
权纯亨
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权纯亨
;
朴贤
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朴贤
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白载烈
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白载烈
;
金旼秀
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金旼秀
;
裵信孝
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裵信孝
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宋大锡
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宋大锡
;
安度源
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安度源
.
中国专利
:CN113138532A
,2021-07-20
[3]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
崔有廷
;
权纯亨
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
权纯亨
;
朴贤
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
朴贤
;
白载烈
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
白载烈
;
金旼秀
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金旼秀
;
裵信孝
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
裵信孝
;
宋大锡
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
宋大锡
;
安度源
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
安度源
.
韩国专利
:CN113138532B
,2025-05-13
[4]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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崔有廷
;
权纯亨
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权纯亨
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金旼秀
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金旼秀
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金圣振
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金圣振
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白载烈
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白载烈
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阵和英
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阵和英
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南宫烂
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南宫烂
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朴贤
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朴贤
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宋大锡
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宋大锡
.
中国专利
:CN115685674A
,2023-02-03
[5]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
崔有廷
;
权纯亨
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
权纯亨
;
金旼秀
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金旼秀
;
金圣振
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金圣振
;
白载烈
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
白载烈
;
阵和英
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
阵和英
;
南宫烂
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
南宫烂
;
朴贤
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
朴贤
;
宋大锡
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
宋大锡
.
韩国专利
:CN115685674B
,2025-10-10
[6]
抗蚀剂底层组合物和使用组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
崔有廷
;
曹雅罗
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
曹雅罗
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郑盛宇
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
郑盛宇
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阵和英
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
阵和英
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金圣振
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金圣振
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李恩受
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
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黄丙奎
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
黄丙奎
.
韩国专利
:CN120909060A
,2025-11-07
[7]
抗蚀剂底层组合物及使用组合物形成图案的方法
[P].
郑盛宇
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
郑盛宇
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李智惠
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三星SDI株式会社
李智惠
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崔有廷
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三星SDI株式会社
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崔有廷
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金圣振
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李在珉
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文情寅
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阵和英
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
阵和英
.
韩国专利
:CN120865771A
,2025-10-31
[8]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
白载烈
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白载烈
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权纯亨
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权纯亨
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金旼秀
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金旼秀
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朴贤
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裵信孝
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宋大锡
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宋大锡
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崔有廷
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崔有廷
.
中国专利
:CN113204170A
,2021-08-03
[9]
抗蚀剂底层组合物及使用所述组合物形成图案的方法
[P].
阵和英
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
阵和英
;
崔有廷
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
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白载烈
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权纯亨
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;
曺雅罗
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
曺雅罗
.
韩国专利
:CN119472167A
,2025-02-18
[10]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
白载烈
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
白载烈
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权纯亨
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
权纯亨
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金旼秀
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金旼秀
;
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
朴贤
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裵信孝
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
裵信孝
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
宋大锡
;
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三星SDI株式会社
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.
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,2025-05-27
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