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抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202210845633.7
申请日
:
2022-07-19
公开(公告)号
:
CN115685674B
公开(公告)日
:
2025-10-10
发明(设计)人
:
崔有廷
权纯亨
金旼秀
金圣振
白载烈
阵和英
南宫烂
朴贤
宋大锡
申请人
:
三星SDI株式会社
申请人地址
:
韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
IPC主分类号
:
G03F7/004
IPC分类号
:
G03F7/11
G03F7/00
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
石明;刘芳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-10
授权
授权
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[1]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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崔有廷
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权纯亨
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权纯亨
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金旼秀
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金旼秀
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金圣振
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金圣振
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白载烈
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白载烈
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阵和英
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阵和英
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南宫烂
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南宫烂
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朴贤
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朴贤
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宋大锡
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宋大锡
.
中国专利
:CN115685674A
,2023-02-03
[2]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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崔有廷
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权纯亨
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金旼秀
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裵信孝
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裵信孝
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宋大锡
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宋大锡
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安度源
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安度源
.
中国专利
:CN113138532A
,2021-07-20
[3]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
崔有廷
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权纯亨
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三星SDI株式会社
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金旼秀
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宋大锡
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安度源
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三星SDI株式会社
安度源
.
韩国专利
:CN113138532B
,2025-05-13
[4]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
白载烈
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白载烈
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权纯亨
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崔有廷
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中国专利
:CN113204170A
,2021-08-03
[5]
抗蚀剂底层组合物及使用所述组合物形成图案的方法
[P].
阵和英
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三星SDI株式会社
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曺雅罗
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曺雅罗
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韩国专利
:CN119472167A
,2025-02-18
[6]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
白载烈
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金旼秀
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金旼秀
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三星SDI株式会社
崔有廷
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:CN113204170B
,2025-05-27
[7]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
黄丙奎
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郑盛宇
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三星SDI株式会社
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郑盛宇
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韩国专利
:CN119668032A
,2025-03-21
[8]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
曹雅罗
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金圣振
.
韩国专利
:CN119668025A
,2025-03-21
[9]
抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
[P].
朴贤
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白载烈
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白载烈
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中国专利
:CN111665683A
,2020-09-15
[10]
抗蚀剂底层组合物和使用组合物形成图案的方法
[P].
崔有廷
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三星SDI株式会社
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金圣振
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阵和英
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三星SDI株式会社
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