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掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411929656.1
申请日：
2024-12-23
公开(公告)号：
CN119882344A
公开(公告)日：
2025-04-25
发明(设计)人：
周桌霖
申请人：
深圳晶源信息技术有限公司
申请人地址：
518000 广东省深圳市福田区福保街道福保社区红棉街8号英达利科技数码园C栋401A
IPC主分类号：
G03F1/84
IPC分类号：
G03F1/72 G06F30/392 G06N5/04 G06N3/096 G06N3/045
代理机构：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人：
尹婧
法律状态：
公开
国省代码：
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-04-25 公开 公开
2025-10-17 授权 授权
2025-05-13 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/84申请日:20241223
共 50 条
[1]
掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
周桌霖 .
中国专利 :CN119882344B ,2025-10-17
[2]
掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
马柯 ;
丁明 ;
李柏珍 .
中国专利 :CN120335227A ,2025-07-18
[3]
一种掩模版图处理方法、设备、介质及产品 [P]. 
刘思 ;
张逸中 .
中国专利 :CN120066788A ,2025-05-30
[4]
缺陷版图的修复方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
黄杰 .
中国专利 :CN119575751B ,2025-10-03
[5]
缺陷版图的修复方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
黄杰 .
中国专利 :CN119575751A ,2025-03-07
[6]
设计版图图形的线段搜索方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
黄浩鑫 .
中国专利 :CN119758659A ,2025-04-04
[7]
设计版图图形的线段搜索方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
黄浩鑫 .
中国专利 :CN119758659B ,2025-12-05
[8]
掩模版清洗方法、装置、设备、存储介质及产品 [P]. 
雷健 ;
谢超 ;
侯广杰 ;
刘传龙 .
中国专利 :CN119187111B ,2025-09-09
[9]
掩模版清洗方法、装置、设备、存储介质及产品 [P]. 
雷健 ;
谢超 ;
侯广杰 ;
刘传龙 .
中国专利 :CN119187111A ,2024-12-27
[10]
版图缺陷位置的确定方法、装置、设备、介质及程序产品 [P]. 
何平 ;
张鸿儒 ;
丁明 .
中国专利 :CN119416733A ,2025-02-11
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