使用用于光刻的超表面和集成光学系统的检测系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380070242.5

申请日：

2023-09-15

公开(公告)号：

CN119923598A

公开(公告)日：

2025-05-02

发明(设计)人：

S·贾哈尼 J·P·范恩格尔罗克珊娜·雷兹瓦尼纳拉吉 I·D·塞蒂贾

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G02B6/00 G03F9/00

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

毕杨

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-21	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20230915
2025-05-02	公开	公开

共 50 条

[1]

用于可扩展和准确的检查系统的集成光学系统 [P].

S·贾哈尼 ;

罗克珊娜·雷兹瓦尼纳拉吉 ;

S·鲁 ;

J·L·克勒泽 ;

J·P·范恩格尔 .

:CN119317870A ,2025-01-14

[2]

集成光学系统 [P].

格拉姆雷扎·查济 ;

埃桑诺拉·法蒂 .

加拿大专利 :CN117613166A ,2024-02-27

[3]

光学系统和光刻系统 [P].

T·沃尔夫斯坦纳 ;

S·沃尔兹 ;

M·霍尔兹 ;

H·比格 ;

A-J·格林 ;

A·弗罗姆迈尔 .

德国专利 :CN120435692A ,2025-08-05

[4]

用于原子干涉仪的集成光学系统 [P].

张小伟 ;

仲嘉琪 ;

汤彪 ;

陈曦 ;

朱磊 ;

王谨 ;

詹明生 .

中国专利 :CN108592783A ,2018-09-28

[5]

用于原子干涉仪的集成光学系统 [P].

张小伟 ;

仲嘉琪 ;

汤彪 ;

陈曦 ;

朱磊 ;

王谨 ;

詹明生 .

中国专利 :CN108592783B ,2024-03-19

[6]

集成光学系统、光学方法及光学系统设计装置 [P].

区智 ;

朱子益 ;

殷浩 ;

亚伯拉罕·C.·马 ;

李威若 .

中国专利 :CN1641411A ,2005-07-20

[7]

超表面透镜、光学系统和光学设备 [P].

王雨杰 ;

朱腾峰 .

中国专利 :CN119224892A ,2024-12-31

[8]

用于微光刻的照明光学系统与光学系统 [P].

马丁.恩德雷斯 .

中国专利 :CN102422225A ,2012-04-18

[9]

光学系统、包括光学系统的光刻设备以及包括光学系统的布置 [P].

R·基泽尔 .

德国专利 :CN120266061A ,2025-07-04

[10]

微光刻的光学系统 [P].

J.格罗斯曼 .

中国专利 :CN110914763A ,2020-03-24

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