光学系统和光刻系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480007257.1

申请日：

2024-01-11

公开(公告)号：

CN120435692A

公开(公告)日：

2025-08-05

发明(设计)人：

T·沃尔夫斯坦纳 S·沃尔兹 M·霍尔兹 H·比格 A-J·格林 A·弗罗姆迈尔

申请人：

卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G02B26/08

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-05	公开	公开

共 50 条

[1]

光学系统和光刻设备 [P].

M.曼格 ;

M.拉布 .

德国专利 :CN115398344B ,2025-10-10

[2]

光学系统和光刻设备 [P].

M.曼格 ;

M.拉布 .

中国专利 :CN115398344A ,2022-11-25

[3]

光学系统、包括光学系统的光刻设备以及包括光学系统的布置 [P].

R·基泽尔 .

德国专利 :CN120266061A ,2025-07-04

[4]

驱动装置、光学系统和光刻设备 [P].

M.阿利曼 ;

M.曼格 ;

L.伯格 ;

M.阿瓦德 .

中国专利 :CN115461978A ,2022-12-09

[5]

光学系统、光刻设备和方法 [P].

S·克朗 ;

K·昆泽 ;

S·厄本 ;

P·托雷斯达席尔瓦 .

德国专利 :CN118302721A ,2024-07-05

[6]

光学系统和包括光学系统的光学装置 [P].

古贺悠修 .

中国专利 :CN102084279A ,2011-06-01

[7]

微光刻成像光学系统 [P].

O.罗家尔斯基 ;

S.施耐德 ;

B.比特纳 ;

J.库格勒 ;

B.格尔里奇 ;

R.弗雷曼 .

中国专利 :CN103140803A ,2013-06-05

[8]

光学系统、光刻设备与方法 [P].

J.哈特耶斯 .

中国专利 :CN109643067B ,2019-04-16

[9]

控制装置、光学系统、光刻设备和方法 [P].

C·里克特 .

德国专利 :CN118974663A ,2024-11-15

[10]

用于操作光学系统的方法和光学系统 [P].

A·韦甘德 ;

F·朗格 ;

M·森德 ;

A·希多伦科 ;

F·沙佩尔 ;

M·哈特林 ;

K·希克 .

德国专利 :CN120559957A ,2025-08-29

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