一种氮化铝陶瓷基板用抛光液及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411921105.0

申请日：

2024-12-25

公开(公告)号：

CN120025741A

公开(公告)日：

2025-05-23

发明(设计)人：

齐荣吴月英

申请人：

北京国瑞升科技集团股份有限公司

申请人地址：

100085 北京市海淀区上地信息路12号1号楼C402、C406室

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-23	公开	公开
2025-06-10	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20241225

共 50 条

[1]

一种氮化铝陶瓷基板用抛光液及其制备方法 [P].

齐荣 ;

吴月英 .

中国专利 :CN119736019A ,2025-04-01

[2]

一种氮化铝陶瓷基板用抛光液及其制备方法和抛光方法 [P].

苑亚斐 ;

成淼 ;

李雪梅 .

中国专利 :CN112521866A ,2021-03-19

[3]

一种用于氮化铝陶瓷粗抛CMP抛光液及其制备方法 [P].

孙蕊蕊 ;

罗浩宁 ;

姜霁涛 ;

何慧龄 ;

火雅茹 ;

牛娟娟 ;

王海成 ;

高宇柱 .

中国专利 :CN119752326A ,2025-04-04

[4]

用于氮化铝陶瓷抛光的抛光液及其制备方法 [P].

李军 ;

于旭东 .

中国专利 :CN118580772A ,2024-09-03

[5]

用于氮化铝陶瓷抛光的抛光液及其制备方法 [P].

于旭东 ;

李军 ;

尹涛 ;

张海龙 ;

丁帅 .

中国专利 :CN121064737A ,2025-12-05

[6]

抛光液及其制备方法 [P].

李俊锋 ;

李青 ;

徐兴军 ;

张广涛 ;

闫冬成 ;

王丽红 ;

郑权 .

中国专利 :CN107629701B ,2018-01-26

[7]

一种抛光液及其制备方法 [P].

周群飞 ;

李强 .

中国专利 :CN109251681A ,2019-01-22

[8]

氮化镓化学机械抛光液及其制备方法 [P].

王永光 ;

钮市伟 ;

寇清明 ;

陈瑶 ;

赵栋 ;

朱玉广 ;

刘卫卫 .

中国专利 :CN110205034A ,2019-09-06

[9]

一种酸性氧化铝抛光液及其制备方法 [P].

汤盛峰 ;

周福兵 ;

肖凯 ;

韦欢 ;

肖伟 .

:CN118185479A ,2024-06-14

[10]

一种无味氮化铝抛光液及其制备方法和应用 [P].

钟培杰 .

中国专利 :CN114672252A ,2022-06-28

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