化学机械抛光的温度控制

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980006568.5

申请日：

2019-06-21

公开(公告)号：

CN111512425B

公开(公告)日：

2025-05-30

发明(设计)人：

H·桑达拉拉贾恩 S-S·常 H·吴 J·唐吴政勋 R·巴贾杰 A·锡尔迪亚

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/304

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

侯颖媖;张鑫

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-30	授权	授权
2025-07-18	专利权期限的补偿	专利权期限补偿IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20190621授权公告日:20250530原专利权期满终止日:20390621现专利权期满终止日:20400602

共 50 条

[1]

化学机械抛光的温度控制 [P].

H·桑达拉拉贾恩 ;

S-S·常 ;

H·吴 ;

J·唐 ;

吴政勋 ;

R·巴贾杰 ;

A·锡尔迪亚 .

中国专利 :CN111512425A ,2020-08-07

[2]

化学机械抛光的温度控制 [P].

H·桑达拉拉贾恩 ;

S-S·常 ;

H·吴 ;

J·唐 ;

吴政勋 ;

R·巴贾杰 ;

A·锡尔迪亚 .

美国专利 :CN120307185A ,2025-07-15

[3]

用于温度控制的化学机械抛光温度扫描设备 [P].

H·桑达拉拉贾恩 ;

张寿松 ;

吴昊晟 ;

唐建设 .

中国专利 :CN113993662A ,2022-01-28

[4]

化学机械抛光装置 [P].

黄君席 ;

柯皇竹 .

中国专利 :CN109397071A ,2019-03-01

[5]

用于化学机械抛光的监测方法和化学机械抛光设备 [P].

路新春 ;

王同庆 ;

慈慧 ;

梁清波 ;

徐海洋 ;

谭锐 .

中国专利 :CN117718876B ,2024-06-18

[6]

用于化学机械抛光的监测方法和化学机械抛光设备 [P].

路新春 ;

王同庆 ;

慈慧 ;

梁清波 ;

徐海洋 ;

谭锐 .

中国专利 :CN117718876A ,2024-03-19

[7]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

朱慧珑 ;

钟汇才 ;

梁擎擎 ;

赵超 .

中国专利 :CN102756323A ,2012-10-31

[8]

化学机械抛光设备和化学机械抛光方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN108115553A ,2018-06-05

[9]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[10]

抛光温度调节装置和化学机械抛光设备 [P].

孟松林 ;

魏聪 ;

其他发明人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN211589697U ,2020-09-29

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