清洗液及基板的清洗方法

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专利类型
发明
申请号
CN202380074603.3
申请日
2023-10-27
公开(公告)号
CN120113033A
公开(公告)日
2025-06-06
发明(设计)人
吴朝逸 和田幸久
申请人
东京应化工业株式会社
申请人地址
日本国神奈川县
IPC主分类号
H01L21/304
IPC分类号
C11D1/00 C11D3/30 C11D3/33 C11D3/43 C11D7/32
代理机构
上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291
代理人
毛立群
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
清洗液及基板的清洗方法 [P]. 
吴朝逸 ;
和田幸久 .
日本专利 :CN120113034A ,2025-06-06
[2]
玻璃基板水基清洗液及使用该清洗液清洗玻璃基板的方法 [P]. 
梁泽超 .
中国专利 :CN108060024A ,2018-05-22
[3]
玻璃基板水基清洗液及使用该清洗液清洗玻璃基板的方法 [P]. 
刘小勇 .
中国专利 :CN103045391A ,2013-04-17
[4]
清洗液生成装置、清洗液生成方法、基板清洗装置及基板清洗方法 [P]. 
宫崎邦浩 ;
桧森洋辅 ;
林航之介 ;
安部正泰 .
中国专利 :CN103579055B ,2014-02-12
[5]
基板清洗液以及基板清洗方法 [P]. 
井田纯一 ;
永井达夫 .
中国专利 :CN104871296B ,2015-08-26
[6]
清洗液及清洗方法 [P]. 
宫下雅之 ;
久次米孝信 ;
山本雅士 ;
伊达和哉 .
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[7]
基板清洗液、使用该基板清洗液清洗的基板的制造方法以及器件的制造方法 [P]. 
绢田贵史 ;
长原达郎 ;
堀场优子 .
中国专利 :CN113227277B ,2021-08-06
[8]
清洗液盒及使用该清洗液盒的清洗方法 [P]. 
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新庄淳一 .
中国专利 :CN109564863A ,2019-04-02
[9]
清洗液稀释系统及清洗液稀释方法 [P]. 
曾文清 .
中国专利 :CN113713644A ,2021-11-30
[10]
清洗液、清洗设备以及安装基板的清洗方法 [P]. 
加茂芳幸 ;
衣川胜 .
中国专利 :CN105002014A ,2015-10-28