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清洗液生成装置、清洗液生成方法、基板清洗装置及基板清洗方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201310346630.X
申请日
:
2013-08-09
公开(公告)号
:
CN103579055B
公开(公告)日
:
2014-02-12
发明(设计)人
:
宫崎邦浩
桧森洋辅
林航之介
安部正泰
申请人
:
申请人地址
:
日本神奈川县
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L2102
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
:
徐殿军
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-02-12
公开
公开
2014-03-12
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101578338609 IPC(主分类):H01L 21/67 专利申请号:201310346630X 申请日:20130809
2016-07-06
授权
授权
共 50 条
[1]
清洗液生成装置及方法、基板清洗装置及方法
[P].
宫崎邦浩
论文数:
0
引用数:
0
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0
宫崎邦浩
;
林航之介
论文数:
0
引用数:
0
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0
林航之介
.
中国专利
:CN103579053B
,2014-02-12
[2]
清洗液生成装置及方法
[P].
白靖宇
论文数:
0
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0
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0
白靖宇
.
中国专利
:CN111180363A
,2020-05-19
[3]
基板清洗液以及基板清洗方法
[P].
井田纯一
论文数:
0
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0
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0
井田纯一
;
永井达夫
论文数:
0
引用数:
0
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0
永井达夫
.
中国专利
:CN104871296B
,2015-08-26
[4]
清洗液及基板的清洗方法
[P].
吴朝逸
论文数:
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0
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0
机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
吴朝逸
;
和田幸久
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
和田幸久
.
日本专利
:CN120113033A
,2025-06-06
[5]
清洗液及基板的清洗方法
[P].
吴朝逸
论文数:
0
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0
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
吴朝逸
;
和田幸久
论文数:
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0
机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
和田幸久
.
日本专利
:CN120113034A
,2025-06-06
[6]
清洗液生成装置、清洗-涂布液生成装置
[P].
神田智一
论文数:
0
引用数:
0
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0
神田智一
.
中国专利
:CN113646097A
,2021-11-12
[7]
清洗液生成装置、清洗-涂布液生成装置
[P].
神田智一
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
神田智一
神田智一
神田智一
.
日本专利
:CN113646097B
,2024-06-04
[8]
玻璃基板水基清洗液及使用该清洗液清洗玻璃基板的方法
[P].
梁泽超
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0
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0
梁泽超
.
中国专利
:CN108060024A
,2018-05-22
[9]
玻璃基板水基清洗液及使用该清洗液清洗玻璃基板的方法
[P].
刘小勇
论文数:
0
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0
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0
刘小勇
.
中国专利
:CN103045391A
,2013-04-17
[10]
清洗液及清洗方法
[P].
宫下雅之
论文数:
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宫下雅之
;
久次米孝信
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久次米孝信
;
山本雅士
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山本雅士
;
伊达和哉
论文数:
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0
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伊达和哉
.
中国专利
:CN102628009B
,2012-08-08
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